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雷射加工技術與應用 班級:自控四甲 姓名:洪靖雯 學號何謂雷射 “鐳射”一詞是“LASER”的意譯。LASER原是Light amplification by stimulated emission of radiation取字頭組合而成的專門名詞，在我國曾被翻譯成“萊塞”、“光激射器”、“光受激輻射放大器”等。1964年，錢學森院士提議取名為“激光”、香港稱“鐳射 ”、台灣稱“雷射”，既反映了“受激輻射”的科學內涵，又表明它是一種很強烈的新光源，貼切、傳神而又簡潔，得到我國科學界的一致認同並沿用至今。 性質: 是指窄幅頻率的光輻射線，透過受激輻射放大和必要的反饋共振，產生垂直、單色、相干的光束的過程及儀器。利用雷射束與物質相互作用的特性對材料(包括金屬與非金屬)進行切割、焊接、表面處理、打孔、微加工以及做為光源，識別物體等的一門技術。 原理: 外加能量以電場、光子、化學等方式注入到一個能級系統並為之吸收的話，會導致電子從低能級向高能級躍遷（所謂受激吸收），當自發輻射產生的光子碰到這些因外加能量而躍上高能級的電子時，這些高能級的電子會因受誘導而遷到低能級並釋放出光子（所謂受激輻射），最後光的強度越來越大（即光線被放大了），而與一般的光不同的是所有的光子都有相同的頻率、相位、前進方向。 要做到光放大，就要產生一個高能級電子比低能量級電子數目多的環境，即群數反轉，這樣才有機會讓高能級電子碰上光子來釋放新的光子，而不是隨機釋放。 何謂 受激輻射: 電子的運動狀態可以分為不同的能級，電子從高能級向低能級躍遷時，會釋放出相應能量的電磁波（所謂自發輻射）。一般的發光體中，這些電子釋放光子的動作是隨機的，所釋放出的光子也沒有相同的特性，例如鎢絲燈發出的光。 何謂 群數反轉: 為了達到光放大的作用，在高能級必須有更多的電子，使得受激輻射發生的機率更高。這個狀態稱為佔據逆轉。出於這個原因，所以以光子激發的二級系統是無法實作雷射的，所以雷射一般是以透過三級系統和四級系統得到實作。 在三級系統中，電子受激躍遷到高能級後，便很快轉為亞穩態。由此雷射媒介被激發為高能態，佔據逆轉得到實作。 雷射產生器的三個基本要素： 「激發來源」（pumping source），把能量供給低能級的電子，激發使其成為高能級電子，能量供給的方式有電苛放電、光子、化學作用…。 「增益介質」（gain medium），被激發、釋放光子的電子所在的物質，其物理特性會影響所產生雷射的波長等特性。 「共振腔」（resonator），是兩面互相平行的鏡子，一面全反射，一面半反射。作用是把光線在反射鏡間來回反射，目的是使被激發的光經過增益介質多次以得到足夠的放大，當放大到可以穿透半反射鏡時，雷射便從半反射鏡發射出去。 雷射分類: 按工作狀態分 ◆連續雷射器 ◆脈衝雷射器 ★調Q（輸出脈寬可以達到奈秒級別） 1. 電光調Q 2. 聲光調Q 3. 染料調Q ★鎖模（輸出脈寬可以壓縮到飛秒級別） 按工作物質分 可以把雷射器分為液體雷射器、氣體雷射器和固體雷射器等。而現在最常見的半導體雷射器算是固體雷射器的一種。 氣體雷射器: 介質是氣體的雷射器，此種雷射器透過放電得到激發。 氦氖雷射器：最重要的紅光放射源（632.8 nm ）。 二氧化碳雷射器：波長約10.6 μm （紅外線），重要的工業雷射。 一氧化碳雷射器：波長約 6-8 μm （紅外線），只在冷卻的條件下工作。 氮氣雷射器：337.1 nm (紫外線)。 氣體雷射器: 氬離子雷射器：具有多個波長，457.9 nm (8%), 476.5 nm (12%), 488.0 nm (20%), 496.5 nm (12%), 501.7 nm (5%), 514.5 nm (43%) （由藍光到綠光）。 氦鎘雷射器：最重要的藍光(442nm) 和近紫外雷射源(325nm)。 氪離子雷射器:具有多個波長，350.7nm; 356.4nm; 476.2nm; 482.5nm; 520.6nm; 530.9nm; 586.2nm; 647.1nm (最強); 676.4nm; 752.5nm; 799.3nm (從藍光到深紅光)。 氣體雷射器: 準分子雷射器：比如，KrF (248 nm), XeF (351-353 nm), ArF (193 nm), XeCl (308 nm), F2 (157 nm) (均為紫外線)。 金屬蒸汽雷射器：比如銅蒸汽雷射器，波長介於510.6-578.2 nm之間