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2018-08-30 发布于湖北
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Change life with heart B4 Array Track 设备介绍 B4 Array Team 31. Dec. 2011 B4 Project Confidential Contents List 1. 概述 (Track Exp) 2. Array Layout _ Photo 3. Track Layout 4. Track M/C Introduce 4- 1 Cleaner 4-2 Coater 4-3 Bake 4-4 Develop 5. Track M/C 节水措施 6. Developer- 浓度控制系统及回收装置 B4 Project Confidential 1 1.概述(Track Exp) 1. 什么是光刻(Photo)? 光刻就是以光刻胶为材料在玻璃基板表面形成具有TFT结构的pattern，这个pattern的作用就是保护在它下面薄膜，使其在下一道刻蚀工序中不被刻蚀掉，从而最终在薄膜上形成我们所需要的TFT pattern. Coat Exposure Development Glass TFT Panel (After Thin Film) B4 Project Confidential 1.概述(Track Exp) 2. 如何实现？三个主要步骤：涂胶Coater，曝光Exposure，显影Developer (1) 涂胶(Coater)：将光刻胶通过涂胶这个步骤，均匀的涂在玻璃基板上,此过程通过Track机的Coater单元来实现 Thin Film Coater B4 Project Confidential 1.概述(Track Exp) (2) 曝光Exposure 通过Mask的遮光作用，有选择性的将光刻胶感光，此过程通过曝光机来实现 mask Exposure B4 Project Confidential 1.概述(Track Exp) （3 ）显影Developer 通过化学作用将感光的光刻胶溶解去掉，此过程通过Track机的Develop单元来实现 Develop