扩散工艺说明(尚德).docVIP

SF SF 工艺说明 产品名称 单晶硅电池片 编号 SF5.405.010GGS 产品图号 SF5.405.010 版号 01 工位名称 扩 散 工位编号 KS 需要人数 第1张共7张 流向 ZBKS 1. 目 的 确保单晶硅磷扩散工艺处于稳定受控状态 2. 适用范围 适用于单晶硅磷扩散工序 3. 责 任 本工艺说明由技术部负责 4. 内 容 4.1 工艺流程 4.1 按照设备点检表点检设备是否完好，符合运行条件。 4.2 升温 4.2.1 按照《扩散设备操作规程》进行升温。对于不常用的炉管，需先进行一次饱和。 4.3 装片、检验（见附页一） 4.3.1 打开传递窗，将片盒从传递窗拿出放到净化工作台里； 4.3.2 用舟叉将空石英舟端至净化工作台； 4.3.3 用石英真空吸笔将片盒内的硅片移至石英舟槽内，每槽2片； 4.3.4 在装片过程中，需检验硅片表面是否干净。若硅片两面都不干净，做返工片处理；若一面干净，一面不干净，则将干净面作为扩散面； 4.3.5 检查硅片是否有裂纹，若有裂纹作碎片处理。 4.4 上桨（见附页二） 4.4.1 用舟叉将石英舟平稳端出净化台，石英舟微微向上倾斜，约15°，端至碳化硅桨上，一边靠近匀流板约13cm。 4.5 扩散 4.5.1 按照《扩散设备操作规程》，开启设备，具备生产条件； 4.5.2 点击触摸屏上的“工艺运行”按钮，输入正确的工艺号,参照