射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金 刚石碳膜工艺与性能表征_qsdlk9e.docxVIP

2009年 10月 第 5期 总第 173期 金刚石与磨料磨具工程 D iamond Abrasives Engineering Oct. 2009 No. 5 Serial. 173 文章编号 : 1006 - 852X (2009) 05 - 0007 - 06 射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类 金刚石碳膜工艺与性能表征 3 陈 冲 2 费振义 1, 2 亓永新 1, 2 曹 宁 1, 2 张益博 1 王 风 2 吕 震 2 李木森 1, 2 ( 1. 山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室 ,济南 250061) ( 2. 山东省超硬材料工程技术研究中心 ,邹城 273500) 摘 要 使用射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积技术 (简称 RFGD PECVD )在玻璃载玻片表面沉 积类金刚石薄膜 。用原子力显微镜 (A FM ) 、摩擦试验仪 、划痕试验机测定了其表面形貌 、耐磨性及附着 性 。采用 X射线光电子能谱 (XPS) 、分光光度计对两种气源 (C4 H10 、C2 H2 )制备的 DLC薄膜微观组成和 透光率进行了检测和对比 。结果表明 : DLC薄膜的表面光滑 、平整 ,表面粗糙度随沉积时间的增加单调 3 1 递增 ;耐磨性及附着性优良 ;与 C4 H10相比使用 C2 H2作为碳源气