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半导体材料光学带隙的计算
禁带宽度是半导体的一个重要特征参量,其大小主要决定于半导体的能带
结构,即与晶体结构和原子的结合性质等有关。禁带宽度的大小实际上是反映了
价电子被束缚强弱程度的一个物理量,也就是产生本征激发所需要的最小能量。
禁带宽度可以通过电导率法和光谱测试法测得,为了区别用电导率法测得禁
带宽度值,用光谱测试法测得的禁带宽度值又叫作光学带隙。下面以光谱测试法
为例介绍半导体材料光学带隙的计算方法:
[1]
对于半导体材料,其光学带隙和吸收系数之间的关系式为 :
αhν=B(hν-Eg)m (1)
其中α 为摩尔吸收系数,h 为普朗克常数,ν 为入射光子频率,B 为比例常数,Eg
为半导体材料的光学带隙,m 的值与半导体材料以及跃迁类型相关:
(1) 当m=1/2 时,对应直接带隙半导体允许的偶极跃迁;
(2 ) 当m=3/2 时,对应直接带隙半导体禁戒的偶极跃迁;
(3 ) 当m=2 时,对应间接带隙半导体允许的跃迁;
(4 ) 当m=3 时,对应间接带隙半导体禁戒的跃迁。
下面介绍两种禁带宽度计算公式的推导方法:
推导1:根据朗伯比尔定律可知:
A=αb c (2 )
其中A 为样品吸光度,b 为样品厚度,c 为浓度,其中bc 为一常数,若B =(B/bc)1/m,
1
则公式(1)可为:
(Ahν)1/m=B (hν-Eg) (3)
1
根据公式(3),若以hν 值为x 轴,以(Ahν)1/m 值为y 轴作图,当y=0 时,反向延伸
曲线切线与x 轴相交,即可得半导体材料的光学带隙值Eg 。
推导2 :根据K-M 公式可知:
2
F(R )=(1- R ) /2 R =K/S (4)
∞ ∞ ∞
其中R∞为绝对反射率(在日常测试中可以用以硫酸钡做参比测得的样品相对反射
率代替[2]) ,K 为吸收系数,S 为散射系数。若假设半导体材料分散完全或者将样
品置于600 入射光持续光照下可认为K=2α[3] 。因在一定温度下样品散射系数为一
常数,假设比例常数为B ,,我们可通过公式(4)和公式(1)可得:
2
(F(R ) hν)1/m=B (hν-Eg) (5)
∞ 2
根据公式(5),若以hν 值为x 轴,以 (F(R ) hν)1/m 值为 y 轴作图,当y=0 时,反
∞
向延伸曲线切线与x 轴相交,即可得半导体材料的光学带隙值Eg 。
推导方法1和推导方法2 分别为通过测量样品吸收光谱和反射光谱值来计算半导
体材料的光学带隙。下面介绍以直接光学带隙半导体材料(m=1/2 )S1 和S2 为
例,通过推导方法1 计算半导体材料的光学带隙值。首先测得S1 和S2 的紫外
2
吸收光谱,如图1 所示。然后通过吸收光谱做(Ahν) -hν 线性关系图,如图2 所
示。沿曲线做反向切线至y=0 相交,所得值为光学带隙值,由图
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