霍尔离子源的结构设计（毕业学术论文设计）.doc

西安工业大学 本科毕业设计(论文) 题目： 系 别：专 业：班 级：学 生：学 号：指导教师： 2011年0月　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 院（系）业姓名号 1.毕业设计（论文）题目： 2.题目背景和意义： 背景和意义:”。 3.设计(论文)的主要内容（理工科含技术指标）： 该题目主要内容的要求：4.设计的基本要求及进度安排（含起始时间、设计地点）： 时间： 选题、收集资料、开题报告[2010年11月25日]；（2）初步设计[2011年1月15日前]；（3）最终方案、制图 [2011年2月7日前]；（4）完善制图[2011年2月28日]；（5）翻译外文文献、中期报告[2011年4月15日前]；（6）导师验收、完成论文 [2011年5月5日前]。 5.毕业设计(论文)的工作量要求 ① 实验(时数)*或实习(天数)： ② 图纸(幅面和张数)*： ③ 其他要求： 指导教师签名： 年 月 日 学生签名： 年 月 日 系主任审批： 年 月 日 说明：1本表一式二份，一份由学生装订入册，一份教师自留。 2 带*项可根据学科特点选填。离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。近年出现对带电粒子通量的研究的趋势将之应用于空间离子推进器，等离子和离子加速器表面处理。此外，要求重视微电子电路和电子加工设备的设计与制造，以改善由聚合物和其他绝缘体结合的基板镀膜强度。电磁场离子束加速器能产生高于电流强度数百倍的静电加速度。因此，等离子加速器电磁场内的封闭漂移电子作为一个发达的高电流离子束源，可用于工业应用及相关的表面改性和制造薄膜。  Structure Design for Hall ion source Abstract Ion source is the device to make and elicit the ion beam from the ionization of neutral atoms or molecules. It is the essential parts for inject the NBI and other equipment for various types of ion accelerator.MS,electromagnetic isotope separation,ion implantation,ion beam etching equipment,ion propulsion and controlled fusion equipment. There has been a growing interest in recent years in the generation of intense charged particle fluxes for applications such as space ion thrusters, plasma accelerators, and ion beam sources for surface treatment. The E×B field accelerator can generate ion beams with a current density several hundreds of times higher than that offered by electrostatic acceleration. Therefore, the plasma accelerator with closed-drift electrons in the E×B field is most developed as a high current ion b