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65nm半导体工艺发展的策略 　　Altera亚太区市场行销总监Louie Leung 　　摘要：本文研究Altera在65nm工艺上的工程策略，介绍公司如何为客户降低生产和计划风险，并同时从根本上提高密度、性能，及降低成本和功耗。 　　关键词：65nm；FPGA；功耗 　　 　　65nm的功耗 　　 　　迈向65nm工艺体现了Moore定律对密度和性能的预测。例如，与基于90nm的StratixⅡ器件相比，下一代65nm工艺StratixFPGA系列在性能上高出20％，将进一步巩固Altera在密度上的领先地位，并扩大Altera的器件优势。65nm工艺也将降低Altera Cyclone系列器件的成本，与竞争产品相比，具有更大的性价比优势。 　　然而，65nm工艺在性能上的提高会导致功耗明显增加，器件可能会消耗过高的功率。如果不采用降低功耗的方法，由于静态功耗增加，65nm工艺的功耗将成为关键问题。漏电流是导致静态功耗增加的主要原因，漏电流包括65nmI艺上更薄的栅极氧化层隧道电流，以及亚阈值泄漏等(沟道和漏极至源极电流)。图1显示了这些漏电流源(蓝色表示)是怎样随着逻辑门尺寸(绿色表示)的下降而增加的。同样的，如果不采取特殊的功耗优化措施，由于开关晶体管密度的增加以及开关频率的增加，动态功耗也会增加。 　　尽管不同应用有不同的功耗要求，低功耗在成本、复杂度和可靠性上有明显的优势，因此，降低功耗对任何硬件平台总是有好处的。除了65nmI艺对功耗特性的要求之外，当今的设计趋势(例如，提高系统外形的紧凑度以及便携性)，也大大增加了PLD对功耗的敏感程度。在某些“范围受限”的应用中，墙插电源是主要供电电源，系统外形非常小，而且非常薄，很难采用气流、热沉以及其他散热管理方案。便携式应用是FPGA相对较新的应用领域，在这种应用中，电池使用时间对静态和动态功耗提出了新的限制要求。设计目标的变化促使功耗成为选择PLD的首要标准。 　　 　　 　　“在需要的地方提高性能”－Altera降低功耗的策略 　　 　　Altera在降低功耗上的策略是帮助客户尽可能的控制好功耗和性能，在这两方面达到均衡。Altera的65nm低功耗策略包括： 　　■功耗最佳硅工艺 　　?三次氧化 　　?芯片应变 　　?低k绝缘 　　■用户可选的内核电压 　　■可设置功耗技术 　　?高性能模式 　　?低功耗模式 　　■QuartusⅡ软件中内置的PowerPlay功耗分析和优化工具 　　 　　功耗最佳硅工艺 　　在65nm工艺中，Altera采用了三次氧化技术来降低漏电流。三次氧化提高了晶体管电压阈值，但是会降低晶体管的性能，因此，Altera巧妙的采用了这种晶体管技术来降低功耗，同时为用户设计提供最佳性能。Altera还使用了应变硅，提高晶体管中的载流子移动能力，增加驱动电流，但是不会增加漏电流。最后，Altera使用低k绝缘工艺来隔离金属层，减小了电容，从而直接降低了动态功耗。 　　 　　用户可选的内核电压 　　用户可选的内核电压使客户能够选择不同等级的功耗和性能。选择最低的支持内核电压，平均降低30％的动态功耗。如果性能没有达到要求，用户可以选择更高的电压，然后使用不同的方法来降低功耗，而不会破坏时序要求，如图2所示。 　　 　　 　　可设置功耗技术 　　Altera对典型FPGA设计的分析表明，为达到最终用户性能要求而设计的关键通道数量以及关键通道的速率对功耗影响较大。分析结果显示，高密度FPGA中有10％的逻辑位于设计中的关键通道上。Altera可设置功耗技术将器件中的不同逻辑电路配置为运行在高性能模式或者低功耗模式中。利用这一独特的技术，关键通道可以工作在高性能模式下，而设计的其余部分则工作在低功耗模式下，以使功耗达到最低值。采用这种强大的FPGA结构特性，用户能够得到所需要的性能，满足设计的特殊要求，同时降低器件其他部分的功耗。 　　通过使用Altera Quartus II软件，用户可以实现这些功耗优势。该软件具有PLD业界最精确的功耗工具，包括功耗优化向导、功耗估算，以及功耗优化的三个步骤： 　　“功耗预知”逻辑综合：Quartus II软件对设计进行综合，减少或者去除高频触发逻辑，降低每一时钟周期中访问的RAM模块数量。 　　■功耗预知布局布线：Quartus II软件对信号进行布局，减小电容，或者建立更省电的DSP模块配置。 　　■功耗预知模式汇集：Quartus II软件对器件中没有使用的部分进行设置，使其进入低功耗模式，从而降低了总功耗。 　　 　　powerplay功耗分析和优化工具 　　 　　QuartusⅡ软件含有PowerPlay功耗分析和优化工具，