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物理电子学专业优秀论文 ITO薄膜的光学性质及其测量 关键词：ITO薄膜 椭偏仪 光学常数 电子束蒸发法 发光二极管 工艺参数 摘要：ITO(Indiumtinoxide)薄膜具有良好的光电性质，广泛应用于各种微电子器件和光电子器件中。ITO薄膜可以单独或与其他材料一起构成增透膜。增透膜的厚度与材料的折射率有关，而ITO薄膜的折射率受多方面因素的影响。并且由于它具有复杂的微观结构和光学性质，所以很难测得其光学常数。因此测量ITO的光学常数就显得十分重要。通常采用分光光度计来获得ITO薄膜的折射率，但这种方法比较麻烦，费时费力。本文通过对ITO薄膜的微观结构和光学性质进行分析，建立模型拟合出ITO薄膜的光学常数，并分析了工艺参数对光学常数的影响。最后，根据测得的光学常数对增透膜中ITO薄膜的厚度进行了优化。 本文主要对以下几方面进行了研究： 1.ITO薄膜拟合模型的研究。 采用椭偏仪法拟合ITO薄膜的光学常数，关键在于建立适当的模型对椭偏参数进行拟合。建立拟合模型需从ITO薄膜的微观结构和光学性质两方面进行考虑。 首先，ITO是一种梯度材料，通过对ITO薄膜横截面的SEM图像进行分析，发现可将ITO薄膜的梯度结构看作是由疏松的底层结构和致密的顶层结构构成的。 其次，ITO薄膜在可见光范围内透过率可达90％以上，因此在可见光范围内，可以用Cauchy模型对其光学常