CN200980134701-低释气性光刻胶组-申请公开.pdfVIP

SooPAT 低释气性光刻胶组合物 申请号：200980134701.1 申请日：2009-07-16 申请(专利权)人 国际商业机器公司 地址 美国纽约 发明(设计)人 R・苏里亚库马兰 H・特鲁昂 R・A・迪皮特罗 S・A・斯 万松 主分类号 C08F36/20(2006.01)I 分类号 C08F36/20(2006.01)I 公开(公告)号 102143981A 公开(公告)日 2011-08-03 专利代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 林柏楠 彭立兵 注：本页蓝色字体部分可点击查询相关专利 (19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102143981A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 102143981 A (43)申请公布 日 2011.08.03 (21)申请号 200980134701.1 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 (22)申请 日 2009.07.16 代理人 林柏楠 彭立兵 (30)优先权数据 (51) Int.C l. 12/206,065 2008.09.08 US C08F 36/20 (2006.01) (85)PCT申请进入国家阶段 日 G03F 7/09 (2006.01) 2011.03.07 (86)PCT申请的申请数据 PCT/EP2009/059160 2009.07.16 (87)PCT申请的公布数据 WO2010/025983 EN 2010.03.11 (71)申请人 国际商业机器公司 地址 美国纽约 (72)发明人 R ·苏里亚库马兰 H ·特鲁昂 R ·A ·迪皮特罗 S ·A ·斯万松 权利要求书 4 页 说明书 12 页 附图 4 页 (54) 发明名称 低释气性光刻胶组合物 (57) 摘要 本发明公开用于光刻胶组合物中的聚合物， 其包括具有下式的重复单元，其中Z 表示聚合物 主链的重复单元；X 为选自由以下组成的组的连 接基团：亚烷基、亚芳基、亚芳烷基、羰基、羧基、 羧基亚烷基、氧基、氧亚烷基及其组合；且R 选自 由以下组成的组：氢、烷基、芳基及环烷基 ；其条 件为X 与R 不为同一环系统的一部分。本发明也 公开光刻胶组合物的浮雕影像的图案化方法，其 中该光刻胶组合物具有小于6.5E+14 个分子/ 平 方厘米/ 秒的释气速率。 A 1 8 9 3 4 1 2 0 1 N C CN 102143981 A 权 利 要 求 书 CN 102143988 A