添加剂对Zn—Ni异常共沉积的作用.doc

添加剂对Zn—Ni异常共沉积的作用 第3l卷第1期 l992年1月 厦门大学(自然科学版) Jouz~ofx响U叫ty(NmuralS—en∞) VOI.31No.1 Jan.1992 添加剂对Zn—Ni异常共沉积的作用. e)一.～ . 蔡加勒周绍民一,
.. (化学系韧理化学研究所)’,ILf j茼兰荨应用极化盘线,微分电容曲线,擞分脉冲极谱,阳极藩出伏安曲线和x.射线衍射等 方法研究组合添加剂XZN一2对Zn—NJ异常共沉积的作用.结果表明,xzN.2使Ni共沉积表现更 加异常.且改变Zn-N|台盒镀层的晶体结构和相组成.实验还发现XZN一2在汞电极上于一0.18～一 1.85V的电位内表理较强的吸附性,嗳附膜对Zn抖和Ni离子放电的阻化作用有明显差异.讨论 了XZN-2的阻化作用机理及导致一N共沉积表现更加异常的原因. 关键诃舍金,异常共沉积.舔加剂,阻化作用 古镍5～10wt.和10~20wt.%的zn—Ni合金镀层耐蚀性分口比同等厚度的纯锌镀层 高3～5和6～20倍.近年来.zn—Ni合金镀层广泛用作钢铁的防护性镀层_l].Zn—Ni合金电沉 积是典型的异常共沉积.即标准电援电位较负的zn反而优先沉积.有关zn—Ni异常共沉积的 机理已提出了几种观点.其中B~enneF握出的所谓添加荆理论,认为H+离子电化学还原 剐反应导致阴极表面的pH值提高,因而zll离子水解生成Zn(OH)在阴极表面上吸附并抑 制Ni的电沉积.这种观点得剜许多研究者的支持. 通常为获得组成稳定,光亮的Zn—Ni合金镀层.需要在镀液中添加某些有机添加剂.然而 有机添加剂存在下zn—Ni的异常共沉积机理研究迄今未见报道.作者使用XZN～2组台添加 剂t在无铵氯化物镀液中以lO～60mA/cm的电流密度获得组成稳定,表现镜亮的zn—Ni台 金镀层.本工作着重探讨xzN一2在zn—N￡共沉积中的作用. 1实验 极化曲线和镦分脉冲投谱实验在美国PAR公司Model384多功能极谱系统上进行.阳极 褡出伏安曲线和徽分电容曲线用DDC一2型电镀参数测试仪测定,实验结果用XY函数记录仪 记录.滴落时间法测定界面张力在DD-3型电镀参数测试仪上进行.镀层的晶体结构用日本理 学公司D/max—RC多晶转靶x一射线衍射仪测定. 极化曲线和镦分电容曲线分别以悬汞(面积为1.89×10cm)和滴汞(最大面积为2.Ol x10cm)作为研究电极.合金镀层的阳极溶出伏安曲线采用玻碳(面积为7.O7×lflcm)和 Ni(0.126cn’l)为基底,沉积上合金镀层前用6金相砂纸磨光,然后用超声波清洗.辅助电彀 为铂片,参比电投为饱和甘汞电极.除特别指明外,文中的电位值均相对于该电极. zn—Ni合金镀层的组成分析:以面积为0.503cmCu为基底,沉积zn—Nj合成镀层后,在 1n~ol/IflCI溶液中化学或电化学溶解,以1tool/!Nfla+jmo[/lNfla+0.005明腔作支持电 解质,通过微分脉冲投谱测定镀层溶解液中Zn”和N离子的浓度. ④】991—08—26收到?宦家自然科学基金和福建省科学基金资助项目 第J期蔡加勒辱餐加剂对Z.n-Ni异常共院积的作用 所甩试剂均为AR级,溶液用二次蒸信水配制.在测定微分电容曲线和徽分脉冲极谱时. 电解池通入高纯氯除氧. 2结果与讨论 2.1XZN一2对Zn—Ni异常共沉积的影响 Fl示出镀液中不存在和存在XZN一2时Zn-Ni台金镀层中Ni舍量与电藐密度的关系. 结果表明,在研究的电流密度范围内XZN一2使zn—Ni合金镀层中Ni的含量显着减少,Zn-Ni的 共沉积表现更加异常. Fig.2表示控电流(20mA/cm)沉积zfI—Ni合金镀层的阳极溶出伏安曲线,Tab.1给出合金 镀层的射线衍射结果.由Fig.2的曲线l和2看出,纯zn和纯Ni镀层的阳极溶出峰电位分别 为一0.95和+0.15V.实验结果还表明.舍Nilt;5wt.%和gt;75wt.的zn—Ni合金镀甚的阳极 溶出峰电位分别与纯zn和纯Ni镀层相回.按照文献给出的zn—Ni合金组成一相图,含Nilt; 』/mA.cm一2 F.嚷.ITheeffectofXZN-2Ollnjck— elcontentintheZn—nialloy deposits I.2.8mol/IKCI4-0.48 mol/ll-l,BOI4-0.5mot/tZn— a,+0.5mol/INiCl:, 2.I4-25na/txzN一2 飚.2Anodic~trippingCUI’V~ofZn(I),Nf(2)and Zn—Ni(3,4)deposi~in100g/lNaCI(10 rnV/s)baths.2.8mo1/1KCI4-0.48mol/l HIB0I4-X xl1.0.