jd4001d型磁控溅射系统-项目名称俄罗斯联邦大厦幕墙.docVIP

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  • 2018-10-16 发布于湖北
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jd4001d型磁控溅射系统-项目名称俄罗斯联邦大厦幕墙.doc

jd4001d型磁控溅射系统-项目名称俄罗斯联邦大厦幕墙

引进国外智力项目成果表 项目编号: 项目名称 JD4001/D型磁控溅射系统 专业领域 光机电一体化 成果简介 通过引智开发的全自动磁控溅射系统主要用于电子元器件及大规模集成电路(IC)器件制造,是新型电子元器件研制开发关键设备之一,该设备还可以用于太阳能电池硅片制造。该设备综合技术性强,自动化程度高,设备由磁控溅射源、超高真空系统、基片自动传送系统、自动控制系统等12个关键技术部分组成。、基片适应范围:既能处理多种规格尺寸的硅片,也能处理GaAs片;既能处理完整片,也能处理成型碎片。2、材料适应范围广:能溅射多种靶材且靶材利用率高。3、工艺灵活性强:工艺处理模块能根据需要增减。4、盒对盒自动送片,直线传送,基片不受压力。5、计算机全自动控制。6、严格控制粒子污染,具有良好的膜厚均匀性和台阶覆盖性。7、高可靠性。8、安装、维护方便,占地面积小。 此设备用于在基片上镀制各种金属薄膜。采用当今国际最先进、最流行的多腔集成溅射模式,既适合中小批量工艺处理要求又兼顾新产品新工艺研究开发需求,是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。 报送部门 四川省外国专家局 项目单位 成都南光机器有限公司公司 联系人 地 址 成都市 邮政编码 61000 电 话 028传 真 电子邮箱 HYPERLINK mailto:sicaiep@ si

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