企业-标准规范沉积镀膜CVD过程检验规范档.doc

沉积镀膜（CVD）过程检验规范 1.目的和范围 规范过程检验，确保产品满足顾客要求。 2.职责 生产技术部，品质部负责对过程进行进监视和测量。 3.检验要求 3.1沉积镀膜（CVD）： 3.1.1 沉积镀膜技术要求： CVD Spec System Layer avg. THK(nm) Dep. time(sec) Uniformity(%) avg. Edge(nm) avg. Rs(??□) Remarks 1 ARC 2 Front ZnO 3 P I N 4 Back ZnO 3.1.2测试频率： 1）.每次更换B2H6后均要进行测试； 2). 每班次进行首片检验； 3.2激光划线（Laser）： 3.2.1 激光划线技术要求： 1). P1根据RMS测试结果进行判定，NG cell数量≥10时，玻璃NG. 2) .P2、P3、P4用台阶仪进行观察测试，划线沟槽边缘应整齐，划线深度P2=? P3=? P4=? 3.2.2测试频率： P1每片检，P2、P3、P4每班次进行首片检验 3.3溅射镀膜（sputter）： 3.3.1 溅射镀膜技术要求： 厚度 均匀性 3.3.2 测试频率 每次更换靶材后需测试 3.4 刷银浆技术要求： 3.4.1 厚度 均匀性 线条 3.4.2测试频率: 丝网印刷？次后进行检验 3.5.薄膜电