第六章功能薄膜材料keoouucq.pptVIP

* * 第六章 金属薄膜材料 薄膜材料的制备方法简介 金属薄膜材料的形成及结构 主要薄膜功能金属材料 第一节 薄膜材料制备方法简介 功能薄膜材料 1、物理气相沉积（PVD） 采用物理方法使物质的原子或分子逸出，然后沉积在基片上形成薄膜的工艺 根据使物质的逸出方法不同，可分为蒸镀、溅射和离子镀 （1）真空蒸镀 把待镀的基片置于真空室内，通过加热使蒸发材料气化（或升华）而沉积到某一温度基片的表面上，从而形成一层薄膜，这一工艺称为真空蒸镀法 蒸发源可分为：电阻加热、电子束加热和激光加热等 功能薄膜材料 （2）溅射（Sputtering） 当具有一定能量的粒子轰击固体表面时，固体表面的原子就会得到粒子的一部分能量，当获得能量足以克服周围原子得束缚时，就会从表面逸出，这种现象成为“溅射” 它可分为离子束溅射和磁控溅射 第一节 薄膜材料制备方法简介 离子束溅射 功能薄膜材料 它由离子源、离子引出极和沉积室3大部分组成，在高真空或超高真空中溅射镀膜法。利用直流或高频电场使惰性气体（通常为氩）发生电离，产生辉光放电等离子体，电离产生的正离子和电子高速轰击靶材，使靶材上的原子或分子溅射出来，然后沉积到基板上形成薄膜。 第一节 薄膜材料制备方法简介 图6.1 离子束溅射工作原理图 功能薄膜材料 磁控溅射 第一节 薄膜材料制备方法简介 图6.2 磁控溅射SiO2装置图 在被溅射