活性屏等离子体源渗氮工艺特性及传质机制.PDF

第 31 卷  第 5 期 中  国  表  面  工  程 Vol. 31 No. 5 2018 年 10 月 CHINA SURFACE ENGINEERING October 2018   doi: 10.11933/j.issn.1007−9289.20180521003 活性屏等离子体源渗氮工艺特性及传质机制 李广宇 ，雷明凯1 2 (1. 营口理工学院 机械与动力工程系，营口 115014；2. 大连理工大学 材料科学与工程学院，大连 116024) 摘 要: 为揭示活性屏等离子体源渗氮工艺特性(试样偏压电位和试样距屏高度)对AISI 316奥氏体不锈钢渗氮效果的 影响规律，利用最小二乘法线性回归拟合了不同工艺条件下渗氮层厚度数据，绘制了活性屏等离子体源渗氮AISI 316奥氏体不锈钢的工艺特性图，以此确定其最佳工艺参数。并通过对金属网屏上溅射颗粒的化学成分和相结构分 析，探讨了活性屏等离子体源渗氮的传质机制。结果表明：渗氮层厚度随试样距屏高度增大而降低，当适当降低渗 氮气压或试样施加一定负偏压时，均有助于提高渗氮层的厚度，并且证实了“溅射-再沉积”模型是活性屏等离子体源 渗氮重要的传质机制。 关键词: 活性屏等离子体源渗氮；奥氏体不锈钢；工艺特性；线性回归；传质机制 中图分类号: TG156.82 文献标志码: A 文章编号: 1007−9289(2018)05–0092–07 Process Characteristics and Mass Transfer Mechanism of Active Screen Plasma Source Nitriding LI Guangyu, LEI Mingkai1 2 (1. Department of Mechanical and Power Engineering, Yingkou Institute of Technology, Yingkou 115014, China;   2. School of Materials Science and Engineering, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China) Abstract: The active screen plasma source nitriding of AISI 316 austenitic stainless steel was used to study the effect of process characteristic (namely the various samples bias and the distance between screen and sample) on the nitriding result. A process characteristics map was constructed to summarize the measured thickness of the nitrided layer and processing conditions through systematic experimentation. The mass transfer mechanism of active screen