毕业论文-Fe-Si化合物薄膜的晶体结构分析.docVIP

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本科毕业论文(设计) 论文(设计)题目:Fe-Si化合物薄膜的晶体结构分析 学 院: 电子信息学院_ 专 业: 电子科学与技术 班 级: 电技101___ 学 号:_1007010024__ 学生姓名:__郑燚____ 指导教师:__张晋敏___ 2014年 5 月 20日 贵 贵州大学本科毕业论文(设计) 贵 贵州大学本科毕业论文(设计) 第 PAGE II 页 目 录 TOC \o 1-3 \h \z \u HYPERLINK \l _Toc20984 摘 要 PAGEREF _Toc20984 II HYPERLINK \l _Toc9970 Abstract PAGEREF _Toc9970 III HYPERLINK \l _Toc2468 第一章 Fe-Si化合物的研究背景和基本性质 PAGEREF _Toc2468 1 HYPERLINK \l _Toc20192 1.1 研究背景 PAGEREF _Toc20192 1 HYPERLINK \l _Toc16546 1.1.1 Fe-Si化合物的研究意义 PAGEREF _Toc16546 1 HYPERLINK \l _Toc19116 1.1.2 Fe-Si化合物的研究现状 PAGEREF _Toc19116 2 HYPERLINK \l _Toc25485 1.2 Fe-Si化合物基本性质 PAGEREF _Toc25485 3 HYPERLINK \l _Toc13597 1.2.1 Fe-Si化合物的相图 PAGEREF _Toc13597 3 HYPERLINK \l _Toc26688 1.2.2 Fe-Si化合物的光学性质 PAGEREF _Toc26688 4 HYPERLINK \l _Toc8720 1.2.3 存在的问题 PAGEREF _Toc8720 4 HYPERLINK \l _Toc23275 1.3 Fe-Si化合物的制备方法 PAGEREF _Toc23275 5 HYPERLINK \l _Toc7594 1.3.1 分子束外延 PAGEREF _Toc7594 6 HYPERLINK \l _Toc27883 1.3.2 固相反应淀积法 PAGEREF _Toc27883 6 HYPERLINK \l _Toc23137 1.3.3 磁控溅射法 PAGEREF _Toc23137 6 HYPERLINK \l _Toc23360 1.3.4 制备方法的比较 PAGEREF _Toc23360 8 HYPERLINK \l _Toc11278 第二章 Fe-Si化合物薄膜样品的制备 PAGEREF _Toc11278 9 HYPERLINK \l _Toc29143 2.1 制备仪器 PAGEREF _Toc29143 9 HYPERLINK \l _Toc8340 2.1.1 磁控溅射仪 PAGEREF _Toc8340 9 HYPERLINK \l _Toc23043 2.1.2 高真空退火设备 PAGEREF _Toc23043 10 HYPERLINK \l _Toc19187 2.2 实验准备工作 PAGEREF _Toc19187 11 HYPERLINK \l _Toc5592 2.2.1 实验材料及条件 PAGEREF _Toc5592 11 HYPERLINK \l _Toc15292 2.2.2 Fe靶的清洗 PAGEREF _Toc15292 11 HYPERLINK \l _Toc22342 2.2.3 Si基片的清洗 PAGEREF _Toc22342 12 HYPERLINK \l _Toc14903 2.3 样品制备过程 PAGEREF _Toc14903 12 HYPERLINK \l _Toc6437 第三章 制备参数对Fe-Si薄膜生长的影响 PAGEREF _Toc6437 14 HYPERLINK \l _Toc11206 3.1 溅射气压对硅化物形成的影响 PAGEREF _Toc11206 14 HYPERLINK \l _Toc20886 3.2 退火时间对硅化物形成的影响 PAGEREF _Toc20886 17 HYPERLINK \l _Toc17217 第四章 总结 PAGEREF _Toc17217 21 HYPERLINK \l _Toc4189 参 考 文 献 PAGEREF _

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