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第卷第期年月物理学报快速热退火和氢等离子体处理对富硅氧化硅薄膜微结构与发光的影响王永谦陈维德陈长勇刁宏伟张世斌徐艳月孔光临廖显伯中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心表面物理国家重点实验室北京年月日收到年月日收到修改稿采用散射傅里叶变换红外吸收谱和光致发光谱研究了快速热退火及氢等离子体处理对等离子体增强化学气相沉积法衬底温度下生长的富硅氧化硅薄膜微结构和发光的影响研究发现在范围内退火薄膜中非晶硅和两相之间的相分离程度随退火温度升高趋于减小而在范围内退火其相分离程度随退火温度升高又趋于增大同时发现薄
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