原子层薄膜沉积系统-浙江大学试验室与设备管理处.DOC

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2018-11-30 发布于天津
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原子层薄膜沉积系统-浙江大学试验室与设备管理处.DOC

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第页编号编号浙江大学购置大型仪器设备可行性论证与审批报告仪器设备名称原子层薄膜沉积系统申请单位材料科学与工程学院系半导体材料实验室所申请人皮孝东项目负责人皮孝东经费来源经费主管部门申请日期实验室与设备管理处制仪器设备中文名称原子层薄膜沉积系统仪器设备外文名称型号规格申购数量单价估计人民币元略折合外币略美元主要技术指标反应区反应区尺寸直径长反应区温度基础真空小于工作压力反应原料供应系统供应线两条输送线每条输送线可输送反应物蒸汽每条输送线可加热至连接阀高密封金属阀固态或液态化学反应原料容器个高密封可

PAGE 第PAGE 6页编号：编号：浙江大学购置大型仪器设备可行性论证与审批报告仪器设备名称原子层薄膜沉积系统申请单位材料科学与工程学院(系) 半导体材料实验室（所）申请人皮孝东项目负责人皮孝东经费来源 985 经费主管部门申请日期 2012/5/13 实验室与设备管理处制仪器设备中文名称原子层薄膜沉积系统仪器设备外文名称 Atomic Layer Deposition System 型号规格 AT ALD 1000H 申购数量 1 单价估计人民