逸散性排放.PPT

逸散性排放 課程內容簡介 Fugitive Emission : 12.1 Introduction : 12.2 Sources and Amounts : 12.3 Measuring Fugitive Emission: 12.4 Controlling Fugitive Emissions: 12.5 Fugitive Emissions from Storage Tank: 12.6 Fugitive Emissions from Waste Treatment and Disposal: 12.1 引言： 一般的公司能夠大量的減少設備排出的污染。然而某些大型的工業，例如油廠和石油化學的設備，是不可能把排放物完全還原成零的。 一個標準的製造工廠可能會有300-30000個可能出現滲漏的部分，例如幫浦，閥體，壓縮機的密封處，軟管的管口處。 12.1 引言： 大精煉廠可能有多於 250,000處潛藏的滲漏設備。良好的保養維護，沒有滲漏的設備就幾乎不會流出作用的流體。 這種可能由於錯誤或是不當的操作設備造成少量流體的不斷滲漏的意外性的排放，被稱為意外排放物，而最主要的滲漏是設備的運轉錯誤。 12.1 引言： 在1996年大約有 25,000 個商業和工業用的乾洗機設備排放了95,700頓的PCE 到大氣中(美國環境保護局, 1997)，在這其中的大多數都是以不經意排放的形式排放。 透過滲漏的發現和修復來控制，例如做好家務的管理就是伴隨著污染防治活動。 12.1 引言： 有許多聯邦、州和有些當地的法令會申請作滲漏監控。這些標準有以下幾個定義： 1.化學製品必須被監控。 2.監控零件的類型(如幫浦、閥體、接點、等等) 。 3.測量滲漏標示的集中。 4.監控的頻率 12.1 引言： 5.當一個滲漏被發現時所採取的行動。 6.必須完成最初始的修復滲漏所需時間長度。 7.必須紀錄滲漏的有效修復所花費的時間長度。 8.如果在準則之內滲漏不能被修復，而其所必須採取的行動。 9.記錄的保存和報告是必需的條件。 12.1 引言： The HON Rule：　　　　　　　　　　　　係國家的危險有機物排放標準的規定。給每一家公司工業所允許的排放標準。Ｔhe HON Rule定義排放的標準，包含有對作用排氣孔、儲存的容器、傳送架和耗水性的操作記錄的保存和報告的需要 。 12.1 引言： LDAR：　　　　　　　　　　　　　　係指滲漏的發現和修復需要。 舉例來說，以前對於用於化學處理的一些閥體10,000個ppmv的標準在1997年減少到500個ppmv (布朗 1997 )。這在工業上將會有劇烈的衝擊與影響。 12.1 來源與數量： 意外的排放其起源於任何設備可能發生滲漏的地方。主要來源是由幫浦、壓縮機的密封處、閥體(高壓洩壓閥)和其他軟管管口處的接點所產生。 圖12.1是把應該要測試意外排放的潛在來源列成表。而意外排放也能夠由開口式的容器或者水池中的危險化合物蒸發產生。但是不經意的排放的另一個來源，是來自於像道路建設和爆破、礦物和石場、交通、廢物收集、和農業等活動所產生的灰塵。 12.2 來源與數量： SOCMI：係指化學合成物有組織化學製造工業之意。意外排放係佔了有機化學產品合成製造工業中所有有機排放物的約三分之一。 插圖12.1展示設備中是意外排放裝置的一個典型輪廓：實際上的百分比會因各工業不同而異。當有些的意外排放來源其罪魁禍首通常就是滲漏的閥體。 12.2 來源與數量： 因此大部分減少意外排放的活動重點都圍繞在減少閥體的損失。這個的方法，連同減少其他意外排放的控制策略會在後面描述。 意外排放的來源是碳氫化合物排放物的累積質量具有嚴重關係。如同第三章節所描述那樣，碳氫化合物是煙霧形成的初期狀態也是臭氧損耗和全球暖化的重要成份。於是控制意外的排放是十分重要的。 TABLE12.1 Equipment leak emission sources Agitator/mixer shaft seals Meters Compressor seals Open-ended lines Connectors Pipe connectors Diaphragms Pressure-relief devices Drains Pump seals Flanges Stuffing boxes Hatches