磁控溅射太阳能电池预镀mo薄膜跟其性能-新.pdfVIP

第 32卷 第2期 辽 宁科技 大 学 学报 V01．32No．2 2009年4月 JournalofUniversityofScienceandTechnologyLiaoning Apr．，2009 磁控溅射太阳能电池预镀 Mo薄膜及其性能 王有欣 ，孙绍广 ，单玉桥。 (1．辽宁科技大学 工程训练中心，辽宁鞍山 114051；2．鞍钢技术中心， 辽宁鞍山 114009；3．东北大学，辽宁 沈阳 110006) 摘 要 ：利用磁控溅射法在玻璃基片上进行了太阳能电池预镀层Mo薄膜的制备，研究了氩气分压、溅射功 率、溅射时间等工艺条件对Mo膜性能及厚度的影响，并对Mo膜的物理性能及电学性能进行 了研究。结果 表明，Mo薄膜的厚度与溅射时间近似的成正比关系，Mo膜的电阻率先降低，并在膜厚为0。3a／n处达到最 低 ，而后电阻率逐渐增加 。 关键词 ：太阳能电池；磁控溅射；Mo薄膜 中图分类号：TB43 文献标识码：A 文章编号：1674—1048(2009)02—0122—04 Mo薄膜作为太阳能电池的反射层，其高的热稳定性和机械强度以及 良好的电学性能越来越受到 人们的重视。Mo薄膜性能的好坏直接影响到吸收层CIS薄膜的形核、生长以及表面形貌，进而对电池 性能产生重要影响。以Mo薄膜作为背反射层，通过 “三源共蒸工艺”制备的小面积CIS薄膜，其试验室 转换效率已达20％左右，是薄膜太阳能电池中最高的1【J。常用的制备Mo薄膜的方法有射频磁溅射、直 流磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发、化学气相沉积(cⅧ )等。本文采用射频溅射方法制备CIS薄膜 太阳电池反射层Mo薄膜。试验过程中，通过改变沉积时间、沉积功率及调整不同的靶间距等工艺条件 制备Mo薄膜，并研究了不同厚度的Mo薄膜的光学性能和电学性能。 1 试 验 试验采用多功能真空镀膜机来制备 Mo薄膜。载玻片作为衬底，靶材为金属Mo靶，溅射气体为 Ar。靶材与基片间的距离为80rain，当真空室本底真空度达到50mPa时，开始溅射镀膜。 为提高薄膜质量，应注意控制溅射功率和 气体分压等条件。目前制备的Mo薄膜厚度在0．6— 0．8 m，实践证明，溅射双层Mo的效果比较好，即在高压下溅射大约0．1 ，然后在低压下溅射 0．6 m 。 其工艺条件如表 1所示。 表 1 磁控溅射制备Mo薄膜的工艺条件 Tab．1 TechnicalconditionsofMothinfilmsbymagnetronsputtering Mo基体的质量直接影响膜的附着力和电池的串联电阻，所以制备过程中要保持较高的真空度和 清洁度以提高表面平整度，防止由于氧的掺入而破坏导电性。溅射时间应尽量长一些，以达到一定的厚 度来减少电阻。应当适当提高衬底的温度，以增强Mo薄膜与玻璃衬底的结合力 。 收稿 日期：2009叭一12。 作者简介 ：王有欣 (1977一)，男，辽宁鞍 山人 。 第2期 王有欣，等：磁控溅射太阳能电池预镀Mo薄膜及其性能 ．123． 2 结果与讨论 2．1 Mo金属薄膜的XRD分析 图1为Mo薄膜的x射线衍射谱(XRD)。由图1可见，利用磁控溅射法制备的Mo薄膜为体心立 方结构，在 (110)面具有择优取向，说明Mo薄膜结晶良好，制备的Mo薄膜可以作为CIS电池的导电 层。 图1 Mo薄膜的X射线衍射谱 Fig．1 X-raydiffractionspectrum ofMothinfilms 2．2 Mo薄膜的表面形貌 利用扫描电镜分析观察了Mo金属薄膜表面形貌，由图2可见，磁控溅射制备的Mo薄膜表面平 整，晶粒分布均匀，致密性较好。由于Mo薄膜层对CIS多晶薄膜的成核、生长和晶体结构有着非常重 要的作用，因此，在制备Mo薄膜的过程中应尽可能减少杂质等缺陷的产生。 图2 Mo金属薄膜表面形貌