沉积参数对！#！薄膜结构和阻透性能影响！.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 6’ ! 4 ! ， ， ， IK= -6’ ,K - ! ]FDL@ 4 （ ） !;$4Z4Z6’ ! Z)$;% [WG[ X.U*\W[ *\,\W[ !4 WM+F - XM@0 - *K1 - 沉积参数对!# 薄膜结构及阻透性能的影响! ! ）） ）） ） ）） ）） ! # ! $ ! ! 丁万昱 王华林 苗 壮 张俊计 柴卫平 !）（光电材料与器件研究所，大连交通大学，大连 !!%’） ）（材料科学与工程学院，大连交通大学，大连 !!%’） $ ）（国家包装产品质量监督检验中心，大连 !!%’） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） ’ % !( ’ ’ ) 利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢 薄膜 通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外—可见分光光 *+, - ! 度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术，分析了 流量、 靶溅射功率等实验参数对 薄膜成分、结构、及 , *+ *+, ! 阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响 研究结果表明， 靶溅射功率固定时，在低 流量条件下，或 流量 - *+ , , 固定时，在高 靶溅射功率条件下，制备的 薄膜中 — 键含量高，结构致密，薄膜对 的阻透性能优良，