制作平面全息光栅的离轴抛物镜／洛埃镜干涉系统-光学精密工程.PDFVIP

第 卷 第 期 光学 精密工程 １９ １ 　 Ｖｏｌ．１９ Ｎｏ．１ 　 　 　　　　 　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　 　　 　　　　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２０１１ １ Ｊａｎ．２０１１ 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２０１１０１００５６０７ 　 制作平面全息光栅的离轴抛物镜／洛埃镜干涉系统 ， ， １ １２ １２ １ １ 巴音贺希格 ，邵先秀 ，崔继承 ，李文昊 ，齐向东 （ 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所，吉林 长春 ； 中国科学院 研究生院，北京 ） １． １３００３３２． １０００３９ 摘要：设计和制作具有较高波前平面度和结构稳定的干涉曝光系统是研制高质量平面全息光栅的首要条件。对离轴抛 物镜／洛埃镜系统、单透镜／洛埃镜系统、球面反射镜／洛埃镜系统和双分离透镜／洛埃镜系统等 种单反射镜干涉曝光系 ４ 统产生的干涉条纹直线度进行了光线追迹。在干涉场中放置标准光栅，使用于曝光的两束平行光入射到光栅上，从而衍 射光相干叠加产生莫尔条纹；并对上述 个系统产生的莫尔条纹做了模拟。利用 多项式对莫尔条纹进行拟合得 ４ Ｚｅｒｎｉｋｅ 到干涉曝光系统的波前像差，比较了 个系统的差异。结果表明，采用离轴抛物镜／洛埃镜系统制作中、小口径平面全息 ４ 光栅是最为合适的。在此基础上，研制了用于制作最大尺寸为 ，刻线密度 ／ 的平面全息光 １１０ｍｍ×１１０ｍｍ ＞１２００ｌｍｍ 栅的离轴抛物镜／洛埃镜干涉曝光系统，在洛埃镜和离轴抛物镜面形精度为 ／（ ）的前提下，平面全息光栅 ８ ＝６３２．８ｎｍ λ λ 的衍射波前像差为 （ ）。此系统经过消除外界扰动和精细装调后，可用于制作衍射波前像差达 ／ ０．２３９６ ＝５５０ｎｍ ６ λλ λ ～ ／（ ）以上的平面全息光栅。 ７ ＝５５０ｎｍ λ λ 关 键 词：平面全息光栅；离轴抛物镜；洛埃镜；干涉系统 　 　 中