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- 2018-12-18 发布于广东
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高分子膜制备 高分子分离膜从形态结构上可以分为均质膜(或称对称膜)和非对称膜两大类。 目前,制备高分子聚合物分离膜的方法主要包括:烧结法、拉伸法、核径迹蚀刻法、相转化法、溶胶-凝胶法、蒸镀法和涂敷法等,其中相转化法是制备非对称高分子聚合物膜的主要方法,大多数工业用膜均用此法制造。 致密均质膜 致密均质膜一般指结构最紧密的膜,其孔径在1.5nm以下,膜中的高分子以分子状态排列。有机高分子的致密均质膜在实验室研究工作中广泛用于表征膜材料的性质。 a.溶液浇铸 将膜材料用适当的溶剂溶解,制成均匀的铸膜液,将铸膜液倾倒在玻璃板上(一般为经过严格选择的平整玻璃板);用一特制的刮刀使之铺展开成一具有一定厚度的均匀薄层,然后移置到特定环境中让溶剂完全挥发,最后形成一均匀薄膜。 b.熔融挤压 将高分子材料放在两片加热了的夹板之间,并施以高压(10~40MPa),保持0.5~5min后,即可得到所需的膜。有机高分子找不到合适的溶剂制成铸膜液,则要采用熔融挤压法来成膜。 辐射源 核刻蚀膜 制备主要有2个步骤:首先用荷电粒子照射固体材料,使材料的化学键断裂,留下敏感径迹;然后将膜浸入适当的化学刻蚀试剂中,固体材料的敏感径迹被溶解而形成垂直于膜表面、规整的圆柱形孔。 目前,核径迹膜的材料主要是聚酯和聚碳酸酯,也可以采用其他材料,例如玻璃,云母等。制得膜的孔径范围为0.01~1
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