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4.4 施主-受主对发光
半导体中杂质间也可能发生光跃迁。最典型的是半导体中的施主杂质与受主杂质间的发光跃迁,俘获在施主上的电子跃迁到俘获有空穴的受主上,也即与此空穴复合。在这过程中,这一对施主受主的状态由()变为(),同时发出一个光子。这称之为施主-受主对(DAP)发光。这种发光在典型的III-V,II-VI化合物半导体中都被观察到。
DAP发光的激发有两种途径:
(a)带—带间激发产生(独立的)电子和空穴→→一个电子被离化的施主俘获,而一个空穴被离化受主俘获,随后俘获的电子空穴复合发光;
(b)受主上的电子直接被激发到离化的施主能级上,→,然后 → 复合发光(放出激发能)。
4.4.1 施主-受主对发光的基本特点
考虑相距r的一对施主和受主,假定这样的系统开始时(初态)施主俘获有一个电子,受主俘获有一个空穴,因而二者都是电中性的。这时该系统的能量,即 跃迁初态能量,就是一对自由电子和空穴(能量等于带隙),分别被施主,受主俘获的状态的能量,它等于
(4.4-1)
其中为半导体的帶隙,ED和EA分别为施主和受主的束缚能。跃迁的终态,施主和受主上俘获的载子复合掉了,留下了离化了的施主和受主,分别带一个有效电荷+e和?e。这时系统的能量就是离化的施主和受主之间的库仑能,也就是说这对施主受主组成的系统的 跃迁终态能量 是这库仑能:
(4.4-2)
其中为晶体的静态场介电系数。为所讨论的施主与受主间的距离。对这样一个施主-受主对,跃迁所发射光子的能量就等于系统初末态的能量差:
(4.4-3)
上式表明,不同的,D与A之间的距离不同,所发射光子的能量也不同。当,库仑能趋向零,光子能量就趋向:
。
所发射光子的能量与间的距离的依赖关系(式(4.4-3)),如图4.4-1所示。
图4.4-1
图4.4-1 (a)施主-受主对(DAP)的复合发光模型;
(b)发光光子能量??与DAP间距r的关系
可见,随着间距离的增加,发光能量向低能方向移动。如果更精细考虑施主受主间的相互作用,特别是小的对,还需对上式进行修正,但只是一个小量。
在晶体中和占据的格位不同,间距就不同。以GaP为例,Si在其中作为受主杂质,S和Te为施主杂质。Si,S和Te都占据元素P的位置,由这种占据同类格位的施主受主形成的DAP叫做I-型DAP。还有II-型DAP,如GaP:Zn,S,其中Zn和S分别占据Ga和P的位置。这两种类型的DAP,可能的间距离不同,但复合发光的能量关系都遵从(4.4-3)式。
上面讨论了DAP发射光子的能量与间距离之间的关系。接下来讨论DAP的发射强度(跃迁速率):在电偶极近似下,跃迁速率与施主-受主对的初末态波函数间的电偶极矩阵元的平方成正比,而 矩阵元的大小与初末态电子波函数的交叠程度有关。对于类氢型浅施主和受主,所束缚的载子的波函数都随离束缚中心的距离指数衰减,而施主波函数的空间范围一般比受主大得多,因此矩阵元对间距离的依赖关系,大体上决定于施主波函数在远的地方的大小。于是DAP的跃迁速率作为间距离r的函数,可以用施主的玻尔半径为参数来表示:
。 (4.4-4)
显然,间距离近的DAP,复合的速率大,复合发光的速率随距离以指数形式迅速降低。
上面的讨论表明,单个DAP的复合发光,随间距离的增大,发射的光谱位置移向长波,跃迁速率和发射强度变小。
实际的晶体中,存在大量的施主和受主,因而有大量的不同间距的DAP。我们观察到的是这些不同间距的DAP发光的总和,因而总的发光谱带展布在一个较宽的范围里,为非均匀加宽的带谱。
观察到的发射强度不仅与单个DAP的跃迁速率成比例,还与具有相应间距的DAP数目成比例。基于上面的讨论,可以预期,观察到的DAP发射谱,将具有下列特点:
1)考虑到晶体中和能占据的格位是不连续分布的,因而间的距离也只能是些非连续的值,特别是对较小的值,这种分立的特点更明显。因此DAP发光谱带的短波区(相应小的值)是由大量的间隔很小的锐线组成。随着的增大,可能的值之间间隔越来越小,跃迁能量的差别也越来越小,相应的“谱线”也越来越密集,何况单个DAP的发射也有有限的宽度,使得在谱带长波区就很难分辨出锐线结构了。
2)谱带中的强度分布,呈现从谱带高能端到低能端,强度先增大,达到一个最大值后,又逐渐减小。这是因为,光谱的高能侧,相应于r小的DA对,D和A的波函数交叠较大,单个DAP的跃迁速率就大,但由r确定的球壳中的DAP数目小,所以发光强度低。随着r的增大,发光移向长波,这时虽然单个DAP的跃迁速率变小,但相应的DAP数目多了,使得发光随之增强。然而,随着r的进一步增大,相应的光谱移向更低能的方向,虽然DAP数目增多了,但初末态波函
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