光学薄膜工艺基础知识培训209-7-11.pptxVIP

光学薄膜 工艺参数与影响因素;;;;;;1.工艺参数与薄膜性能的关系 2.影响光学性能的因素 3.影响薄膜机械性能的因素 4.影响薄膜环境稳定性的因素 5.总结;所以工艺因素对膜层内部结构产生了影响，使得对薄膜的各种性能产生影响 ,总结影响如图所示：;工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为： 一. 基片材料 1. 膨胀系数不同 热应力的主要 原因 ； 2. 化学亲和力不同 影响膜层附着力和牢固度； 3. 表面粗糙度和缺陷 散射的主要来源。 二. 基片清洁 残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1. 膜层对基片的附着力差； 2. 散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3. 透光性能变差。 ;三. 离子轰击的作用 提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。 四. 初始膜料 化学成分（纯度/杂质种类）、物理状态（粉/块）和预处理（真空烧结/锻压）影响膜层结构和性能;五. 蒸发方法 不同蒸发方法提供给蒸发分子和原子的初始动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，表现为折射率、散射、附着力有差异。 六. 蒸发