磁控溅射系统-浙江大学试验室与设备管理处.DOC

PAGE 第PAGE 4页 编号： 编号： 浙江大学 购置大型仪器设备可行性论证 与审批报告 仪器设备名称 磁控溅射系统 申 请 单 位 浙江大学工业技术研究院 电力电子器件研究中心 申 请 人 盛况 项 目 负 责 人 盛况 经 费 来 源 科研经费 经费主管部门 浙江大学工业技术研究院 申 请 日 期 2011年11月1日 实验室与设备管理处制 仪器设备中文名称 磁控溅射系统 仪器设备外文名称 Sputtering System 型号规格 FU-16PSB 申购数量 1台 单价估计 人民币(元)：（略）万元 (折合)外币：（略）万美元 主要技术指标 系统主要由磁控溅射室、磁控溅射靶（折靶）、DC溅射电源、RF射频电源、加热样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统和微机控制镀层系统等部分组成。（1）真空度极限≤3×10-5Pa。（2）系统漏率：停泵关机12小时后，溅射室真空度可达≤1Pa。 （3）溅射靶：磁靶。三支靶共溅射时靶与基片距离约为100~140mm范围内连续可调。三支靶直溅射时靶与基片距离约为40~80mm范围内连续可调。 （6）样品转台：具备公转和自转功能，温度由室温～300 （7）自动控制排气系统； （8）真空室材料为优质CrNiTi不锈钢。 （9）计算机控制系统：由硬件