薄膜光学与技术 绪论.pptVIP

★ 2. 新技术— 成膜技术 1. 电子束蒸发 --- 电子束蒸发仍是主流 2. IAD技术应用已普遍化--- Kaufman源; Hall源 3. 溅射技术---高质量、高难度、高效率的光学薄膜制备的趋势 4. 原子层淀积 (Atomic layer deposition)---1970’芬兰科学家提出,在半导体工业广为应用. 主要用三甲基铝Al(CH3)3 和 OH 反应制备Al2O3膜。 脉入 反应物A 清除多余 反应物 脉入 反应物B 清除多余 反应物，生成单原子层 HfCl4 H2O HfCl4 + H2O = HfO2 + 4Cl4 原子层淀积 (Atomic layer deposition) 单原子层淀积过程 蛾眼结构增透膜 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 Methods to perform AR properties interference coatings effective media neff2 neff1 neff3 nsub period thickness period ? ?/nsub thickness ? /2 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 蛾眼结构增透膜 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 波状结构薄膜光子晶体 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 波状结构薄膜光子晶体 偏振分束镜(PBS) 设计 测试 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 波状结构薄膜光子晶体 测试结果 周期不同，滤光片带通波长不同 长波通滤光片 evaporated Si 掠入射角淀积(GLAD)薄膜 1. 左、右旋光器件 2. 波片 3. 位相补偿片 4. 偏振光成象传感器等 ★ 3. 微器件--- 微纳结构薄膜 ★ 3. 微器件--- Optical MEMS ★ 3. 微器件--- Optical MEMS 不同的空气隙厚度反射不同的颜色 ★ 3. 微器件--- Optical MEMS Digital Paper?, a New Reflective Display Device The left figure shows a set of iMoDsTM combined in a single color pixel so that different levels of color can be obtained from what is basically a binary device. The right shows a photograph of an actual display. Color resolutions of 300dpi are achieved. Main Advantages: Low power consumption Natural color （高通光电公司） ★ 3. 微器件---集成滤光片阵列 滤光片阵列： 由宽度小于500μm，中心波长不同的带通滤光片排列组成 结合探测器，构成紧凑型成像光谱仪 可见光七通道滤光片实物图 实测滤光片透过率曲线 ★ 3. 微器件---集成滤光片阵列 风云三号采用集成滤光片成像光谱仪拍摄的图像 风云三号成像光谱仪台风监测图 （可见/近红外通道，2008年7月） 风云三号B星拍摄的可见通道云图 （2012年1月13日发射） 光学薄膜待解决的难题 1. 消偏振薄膜的设计 2. 啁啾镜极薄膜层的厚度控制精度 3. 离子辅助技术- 致密薄膜- 压应力 4. 激光损坏远低于大块材料 5. 极限特性光学薄膜的研究 极短波长 极大的激光抗损伤阈值 极短脉冲 极小损耗 极低应力… The End! * * * * Ar surfaces mostly cosist of vacuum deposited caotings of dielectric material layers. The reflectivity of such a surface is reduced, when the waves refelected from the two interfaces cancel out, thea have equal amplitude and a half-wavelength phase shift. As an alternative the AR effect can be achieved by patterning the surface with a grati