Chapter3元件制作与量测系统介绍.PDFVIP

Capter 3 量 3.1 GaAs/AlGaAs 利 度 金 ( 5 ) 利 度 金 ( 1~0.1 ) 3.1.1 1.(mesa structure ) GaAs/AlGaAs 3.1 連 A B C 3.1 A (MESA) B (ohmic contact) C 金 (gate) 18 (1)(photolithography) (2)(wet etching) 流 : (1)(photolithography) a. 流 (standard cleaning process) b. (spin coating): AZ5214 利 (spinner) 度 :1000 r.p.m. 10