基于fpga的储存环逐束团流强测量系统研制-核科学与技术专业论文.docxVIP

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基于fpga的储存环逐束团流强测量系统研制-核科学与技术专业论文

University University of Science and Technology of China A dissertation for Master’S degree Development of FPGA-.based Bunch-by_bunch Beam Current Mon itori ng System at Storage Ri ng Author’S Name: Chuansheng Liu Speciality: Nuclear Science and Technology Supervisor: Associate Prof.Zeran Zhou Finished time: May,20 1 6 万方数据 万方数据 万方数据 中国科学技术大学学位论文原创性声明本人声明所呈交的学位论文,是本人在导师指导下进行研究工作所取得的成 中国科学技术大学学位论文原创性声明 本人声明所呈交的学位论文,是本人在导师指导下进行研究工作所取得的成 果。除己特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含任何他人已经发表或撰写 过的研究成果。与我一同工作的同志对本研究所做的贡献均已在论文中作了明确 的说明。 作者签名: 垒!I j垄丝 中国科学技术大学学位论文授权使用声明 作为申请学位的条件之一,学位论文著作权拥有者授权中国科学技术大学拥 有学位论文的部分使用权,即:学校有权按有关规定向国家有关部门或机构送交 论文的复印件和电子版,允许论文被查阅和借阅,可以将学位论文编入《中国学 位论文全文数据库》等有关数据库进行检索,可以采用影印、缩印或扫描等复制 手段保存、汇编学位论文。本人提交的电子文档的内容和纸质论文的内容相一致。 保密的学位论文在解密后也遵守此规定。 回公开 口保密( 年) 作者签名:叁j篚竺 导师签名: 签字日期:丛碰,.!!主旦 熬宰日期.侧石.岁.弓D.签字日期:!!’!:!:Z!: 万方数据 万方数据 摘要摘要 摘要 摘要 逐束团流强测量是监测多束团储存环运行的重要手段,同时也是研究束流不 稳定性阈值和束流注入填充模式的重要方法,是top.off恒流注入不可或缺的技 术手段。国内外的大型加速器,如国际上的SPring.8、BESSY、KEKB、NSLS II, 国内的BEPC II、SSRF、HLS II等均有逐束团流强测量系统。HLS II现有的逐 束团流强测量系统采用高速数字示波器采样BPM和信号,利用积分法测流强, 示波器的采样分辨率为8bit,且采样时刻与束团不同步,需要利用插值算法来重 新构建信号波形。由于合肥光源未来将进行top.off恒流注入,对逐束团流强测 量系统有更高精度的要求。 本文首先调研了国内外主要加速器中所采用的逐束团流强测量方案,并对逐 束团流强测量理论进行了分析推导,详细分析了利用条带型BPM和纽扣型BPM 和信号测量逐束团流强的原理,同时也分析了纵向振荡和束团伸长效应对测量的 影响以及应对方法。在此基础之上提出了新的HLS II逐束团流强测量方案。 本文接着介绍了新研制的逐束团流强测量系统的硬件架构。该系统主要由高 速高精度ADC、高性能FPGA、USB以及本地PC构成。ADC采样分辨率是12bit, 最高采样率可达250MS/s。采样时钟来源于加速器高频时钟,因此采样与逐束团 同步。FPGA内部的移相模块可实现对采样时钟的高精度移相,使ADC采样到 信号峰值。除此之外,FPGA内部还构造了FIFO用于缓存采样数据。USB负责 将数据传送到主机中,以便进行分析处理。 本文还详细介绍了对采样数据的处理算法。对数据的处理主要是由 LabVIEW软件来完成的。LabVIEW通过CALab与EPICS通信,实时获取DCCT 流强值用来标定逐束团流强。将采样信号在LabVIEW中做FFT运算可以从中分 析出逐束团的纵向工作点。 最后,对新研制的逐束团流强测量系统进行了在线测试。测试结果表明,在 开启储存环纵向反馈抑制了纵向振荡以后,测量精度高,均方根误差可达 0.002mA。本系统除了测量逐束团流强外,还实现了纵向工作点的测量,未来还 可以测量逐束团寿命等,为合肥光源储存环性能提升,提供更多的束流诊断手段。 关键词:合肥光源,储存环,逐束团流强,高速ADC,EPICS 摘要 11 Abstract Abstract Abstract To multi-bunches storage ring accelerator,bunch-by-bunch beam current measurement is a important way to monitor beams and to study injection filling pattern and beam i

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