确保任何清洁液体的pH值都低于2否则-MEMBRANIUM.PDF

版本: 3 术维护文件 生效日期: 25.05.2016 文件编: BТО-102 5 页 反渗膜污染物以及它们从nanoRo反渗复合聚酰胺膜元件的移除 文件提供在运行中影响复合聚酰胺膜元件性能的污染物的清除方法信息信息适用于反 渗膜原件2.5，4.0和8.0 注意: 在任何情况复合聚酰胺反渗膜元件都暴露在机溶液和石油产品中任何样的接 触都会成膜元件可逆转的损害必要管道和设备进行彻的消毒，准备清洁液体和必须 存储的液体必须确保没氯的存在，甚是提供给反渗膜原件本身的原水在氯的存在存 疑问的情况，必须进行化学测试必要用硫酸氢中和余的氯，确保在适当的接触时间内 完成脱氯 注意: 建议在保修期内，进行所的反渗膜操作的过程中和«РМ Nаnотех»公的术专家共同 进行如必要，«РМ Nаnотех»公的术专家可以留在设备原地协进行膜元件的清洁工作 请联系«РМ Nаnотех»公的术中心咨询相关服收费 注意:在清洁溶液中要避免使用离子表面活性剂，否则可能膜元件性能可逆的降低 1. 膜元件的污染物. 随着时间移，反渗膜元件的常工作可能存在于原水中的一悬浮污染物活微溶性物 质影响最常见的是碳酸钙，硫酸钙，金属氧化物，二氧化硅，机或生物沉淀物等膜元件表面沉 积物 膜元件沉积的度和性能决于原水的状况沉积是产生的，如果在早期得 到制，将会在短时间内影响反渗膜的性能 整个装置定期的检测是查明膜污染物的必要措施污染物膜性能的影响是显 的，随着污染周期的化而化在表1中指出了污染物膜操作性能的影响 2. 污染物的去除. 污染物的去除借于清洁和漂洗，或者操作条件的化通常情况，清除污染物在列 条件进行: • 标准化校到25°C，见文件BT0-101滤液流相比常气压计算少15%. • 滤液的常电系数增15% 常通过增15% • 在水耗和CIF 增15%的情况将反渗装置的常压力降低 超过述指定参数可能会成为质保失效的原因. 面是常见污染物和去除它们的方法和说明表1. 2.1. 碳酸钙的沉积. 碳酸钙的沉积可以由任何在系统原水中确输入阻化剂或者酸成或者检测pH值，成 原水中pH值过高在早期阶段的碳酸钙沉积检测是非常要的，以可能会发生的膜的活性层晶 体所的损害早期的碳酸钙沉积物可通过将pH在12个小时内降3.0~5.0来去除再度累积 的碳酸钙沉淀物可通过使用循使用2% 的柠檬酸溶液通过pH值低于4.0 的反渗膜元件实去 除1 : pH 2 注意 确保任何清洁液体的 值都低于 否则，就会出反渗膜元件的损坏尤其是在高温 pH 12. pH 值的最大小于 为了提升 值，可以使用氢氧化用于降低则使用硫酸或酸 2.2. 硫酸钙沉淀物. 从反渗膜原件去除硫酸钙沉积物的最好方法—使用溶液2 见表1. 1 2.3. 金属氧化物的析出物. 氢氧化物的沉淀物例如氢氧化铁通常通过去除碳酸钙沉淀的方法. 2.4. 沉淀的二氧化硅. 二氧化硅的沉积物和金属氢氧化物或机物无关，只能借特方法去除关清洁说明， 请联系«РМ Nаnотех»公的术支持中心 2.5. 机沉淀物. 机沉淀物例如微生物菌的去除最好通过使用溶液 来实为了抑制物质进一 的滋长，当使用由«РМ Nаnотех»公认可的杀生物剂液体来清洁膜元件需要长期效地作 用：杀生物剂最效的作用方法是串联块状的反渗装置被设计为存储状态超过天情请咨 询«РМ Nаnотех»公的术支持中心