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基于非对称基区晶体管压力传感器温度补偿集成化研究-微电子学与固体电子学专业论文
优秀毕业论文
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Abstractbase
Abstract
base asymmetric transistor,the sensitivity temperature drift of the temperature compensating pressure sensor is-1 27 ppm/℃.The results demonstrate that.the temperature compensating pressure sensor which designed and fabricated in this paper
has good pressure sensitivity and temperature characteristics.
Key words:base asymmetric transistor;pressure sensor;temperature compensation;
MEMS technology;SOl
万方数据
黑龙江大学硕士学位论文目
黑龙江大学硕士学位论文
目 录
中文摘要 I
Abstract .... . .... . . .II
第1章绪论 1
1.1论文研究目的和意义 1
1.1.1研究目的 1
1.1.2研究意义 1
1.2压力传感器研究现状 2
1.2.1纳米多晶硅压力传感器研究现状 .2
1.2.2 SOl压力传感器研究现状 一6
1.3传感器温度补偿研究现状 .12
1.4论文主要研究内容 .17
第2章非对称基区晶体管温度补偿压力传感器基本结构与工作原理 一1 9
2.1非对称基区晶体管温度补偿压力传感器基本结构 .19
2.2非对称基区晶体管温度补偿压力传感器工作原理 .20
2.2.1压力传感器工作原理 一20
2.2.2非对称基区晶体管温度补偿工作原理 一24
2.3本章小结 .26
第3章非对称基区晶体管温度补偿压力传感器芯片结构设计 一27
3.1压力传感器硅膜形状仿真设计 .27
3.1.1 ANSYS静态力学分析简介 .28
3.1.2压力传感器硅膜形状的选择 一30
3.1.3压力传感器硅膜尺寸的优化设计 一35
3.2压力传感器扩散电阻位置设计 .37
3.2.1硅膜应力分布计算 一37
3.2.2硅膜电阻位置计算 一40
万方数据
目
目 录
3.3压力传感器理论灵敏度计算 .43
3.4非对称基区晶体管基区电阻比设计 .45
3.5本章小结 .46
第4章非对称基区晶体管温度补偿压力传感器芯片制作与封装 ..47
4.1非对称基区晶体管温度补偿压力传感器芯片版图 .47
4.2非对称基区晶体管温度补偿压力传感器制作工艺 .47
4.3非对称基区晶体管温度补偿压力传感器芯片封装 .49
4.3.1封装管座设计 一49
4.3.2静电键合 ..5 1
4.4本章小结 .52
第5章实验结果与分析 ..53
5.1压力传感器静态特性 .53
5.1.1压力传感器静态特性主要指标 一53
5.1.2压力传感器静态特性计算程序 一55
5.1.3压力传感器静态特性实验测试 一56
5.1.4压力传感器静态特性曲线绘制 一59
5.2非对称基区晶体管特性 .62
5.2.1非对称基区晶体管卜矿特性 一62
5.2.2非对称基区晶体管温度特性 一64
5.3非对称基区晶体管温度补偿压力传感器温度特性 .66
5.3.1补偿前压力传感器温度特性 一66
5.3.2补偿后压力传感器温度特性 一66
5.4非对称基区晶体管优化设计 .68
5.5本章小结 .7l
结 论 72
参考文献 73
致 谢 81
万方数据
黑龙江大学硕士学位论文攻读学位期间发表论文
黑龙江大学硕士学位论文
攻读学位期间发表论文 82
攻读学位期间科研项目 83
附 录 84
独创性声明 88
万方数据
第1
第1章绪论
第1章绪论
自从1945年史密斯(C.S.Smith)发现了硅与锗的压阻效应,制作出了压力 传感器开始,压力传感器逐渐成为了人们在生活、军事、科研等领域不可或缺的 一部分。1960年以后,由于硅扩散技术的发展,可以制作出体积小、重量轻、灵 敏度高的传感器。1970年以后,硅各向异性腐蚀技术的出现,进一步优化了传感 器的性能。如今,随着MEMS技术的成熟,压力传感器进入了微米/纳米级别,各 方面的性能得到广泛的提升[1,21。近些年来,压力传感器在科技领域中的地位越来 越重要,压力传感器被广泛应用在各个领域。小型化、集成化与智能化正是压力 传感器的方向发展,而压力传感器亟待解决的问题是存在温度漂移,为了解决这 一问题,使压力传感器可应用在更广阔的条件下,压力传感器的温度补偿已经成 为设计压力传感器时必须要考虑的一个问题。
1.1论文研究目的和
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