烧结碳化硅光学零件的氧化辅助抛光机理研究-机械工程专业论文.docxVIP

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2019-01-15 发布于上海
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烧结碳化硅光学零件的氧化辅助抛光机理研究-机械工程专业论文

万方数据万方数据国防国防科学技术大学研究生院博士学位论文目录 HYPERLINK \l _bookmark0 摘要 i HYPERLINK \l _bookmark1 Abstract ii HYPERLINK \l _bookmark2 第一章绪论 1 HYPERLINK \l _bookmark3 1.1 课题的来源与意义 1 HYPERLINK \l _bookmark4 1.1.1 课题的来源 1 HYPERLINK \l _bookmark5 1.1.2 课题的研究背景与意义 1 HYPERLINK \l _bookmark11 1.2 烧结碳化硅光学零件加工研究现状 4 HYPERLINK \l _bookmark12 1.2.1 经典加工方法 5 HYPERLINK \l _bookmark14 1.2.2 新型加工技术 6 HYPERLINK \l _bookmark18 1.2.3 氧化辅助抛光 8 HYPERLINK \l _bookmark19 1.3 烧结碳化硅光学零件氧化辅助抛光的可行性分析 8 HYPERLINK \l _bookmark20 RB-SiC 的成分分析 8 HYPERLINK \l _bookmark22 RB-SiC 的可氧化性 9 HYPERLINK \l _bookmark27 1.3.3 氧化层的可抛光性 12 HYPERLINK \l _bookmark35 1.4 本研究的主要内容 16 HYPERLINK \l _bookmark36 第二章烧结碳化硅氧化过程建模与分析 17 HYPERLINK \l _bookmark37 2.1 基于扩散原理的氧化过程分析 17 HYPERLINK \l _bookmark38 2.1.1 基于单向内扩散原理的氧化过程分析 17 HYPERLINK \l _bookmark42 2.1.2 基于双向扩散原理的氧化过程分析 21 HYPERLINK \l _bookmark45 2.2 阳极氧化过程建模与分析 24 HYPERLINK \l _bookmark46 2.2.1 阳极氧化过程建模 25 HYPERLINK \l _bookmark48 2.2.2 阳极氧化过程的宏观氧化层厚度分析 27 HYPERLINK \l _bookmark50 2.2.3 阳极氧化过程的微观氧化物形貌分析 29 HYPERLINK \l _bookmark53 2.3 等离子体氧化过程建模与分析 30 HYPERLINK \l _bookmark54 2.3.1 等离子体氧化过程建模 30 HYPERLINK \l _bookmark58 2.3.2 等离子体氧化过程的宏观氧化层厚度分析 32 HYPERLINK \l _bookmark60 2.3.3 等离子体氧化过程的微观氧化物形貌分析 33 HYPERLINK \l _bookmark61 2.4 热氧化过程建模与分析 33 HYPERLINK \l _bookmark62 2.4.1 热氧化过程建模 33 HYPERLINK \l _bookmark64 2.4.2 热氧化过程的宏观氧化层厚度分析 34 第 I 页第 I 第 II 页万方数据 HYPERLINK \l _bookmark67 2.4.3 热氧化过程的微观氧化物形貌分析 35 HYPERLINK \l _bookmark68 2.5 本章小结 35 HYPERLINK \l _bookmark69 第三章烧结碳化硅氧化辅助抛光实验系统设计与优化 37 HYPERLINK \l _bookmark70 3.1 阳极氧化辅助抛光系统设计与优化 37 HYPERLINK \l _bookmark71 3.1.1 设计目标 37 HYPERLINK \l _bookmark72 3.1.2 阳极氧化系统设计与优化 37 HYPERLINK \l _bookmark78 3.1.3 阳极氧化抛光系统设计与优化 39 HYPERLINK \l _bookmark82 3.2 等离子体氧化辅助抛光系统设计与优化 41 HYPERLINK \l _bookmark83 3.2.1 设计目标 41 HYPERLINK \l _bookmark84 3.2.2 等离子体氧化系统设计与优化 41 HYPERLINK \l _bookmark87 3.2.3 等离子体氧化抛光系统设计与优化 43 HYPERLINK \l _bookmark89 3.3 热氧化辅助抛光