分析化学电子教案-氧化还原滴定分析法.pptVIP

§4.1 氧化还原平衡 §4.1 氧化还原平衡 §4.1 氧化还原平衡 §4.1 氧化还原平衡 §4.1 氧化还原平衡 例 计算 在 1.0 mol/L HClO4 介质中， 计算 在 1.0 mol/L HClO4 介质中， (2) 离子强度的影响 (3) 副反应的影响 (3) 副反应的影响 (3) 副反应的影响 二 氧化还原平衡常数 三 化学计量点时反应进行的程度 三 化学计量点时反应进行的程度 三 化学计量点时反应进行的程度 三 化学计量点时反应进行的程度 2 诱导反应 2 诱导反应 Ⅱ 沉淀的形成 —— 也会导致[Ox]/[Red]的比值发生变化,从而影响电极电势 例如 2Cu2+ + 4I- ＝ 2CuI↓ + I2 在 [I-] ≈ 1mol/L 时 Ksp(CuI)＝[Cu+][I-] ＝ 10 -11.96 通过计算说明 已知 反应生成了难溶物 CuI↓ [Cu+] ＝ Ksp(CuI) / [I-] 3 影响条件电极电势的因素 §4.1 氧化还原平衡 Ⅱ 沉淀的形成 例如 2Cu2+ + 4I- ＝ 2CuI↓ + I2 Ksp(CuI) ＝ [Cu+][I-] ＝ 10 -11.96 [Cu2+]=[I-]≈1.0 mol/L 若控制