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辐射防护分类 X、γ射线源的类型 X射线机,加速器X射线源; γ源,常见的如Co-60、Cs-137源; 1、X射线的产生 利用高速电子轰击高原子序列的靶,产生X射线,分韧致X射线和特征X射线2类,在实际应用一般不做区别; 2、X射线的剂量计算 (1)、发射率常数 发射率常数的定义; 重点:a、利用的相关单位的统一; b、附图1~4的发射常数曲线只是在空气中的情况,若有人体存在,需要加以修正; c、管电压波形的影响; (2)、剂量率计算公式 1、X射线的产生 利用高速电子束轰击高原子序列的靶,产生X射线,分韧致X射线和特征X射线2类,但后者一般因能量较低,从辐射防护角度可以忽略; 2、加速器X射线的发射率常数 与电子能量、束流强度、靶物质原子序数Z、靶的厚度等因素相关,同时与发射角度也有很大的关系; 课本P71图3.3给出了Z73的靶物质发射的0o和90o方向的发射率常数的曲线;对常见低Z材料,其修正因子见P73表3.1; 数据图中X、Y轴为对数坐标的读数方法(暂行): 实际工作中多层介质后面的剂量率的计算 二、加速器X射线的屏蔽计算 1. 沿入射电子方向0o发射的初级X射线的屏蔽计算 要建筑一个Co-60辐照室,源活度为3754居里,墙外容许照射率为0.25mR/h,若用混凝土建筑,需要屏蔽墙的厚度是多少? 解:A=3754Ci, Γ=1.32 Rm2/hCi R=3m, X=0.25mR/h 无屏蔽时,墙外的照射量率为 对初级X、γ射线的屏蔽层为初级屏蔽层(主屏蔽层); 次级辐射:指泄漏射线和散射线,对它们的屏蔽层称为次级屏蔽层; (1)泄漏射线为主的屏蔽计算 对X射线机、γ射线治疗机,其屏蔽的透射比用下列公式计算: 由于是次级射线,因此最为简单的屏蔽厚度计算方法为:当得到透射比ηx后,由公式: 遵循的原则:综合考虑泄漏射线和散射线,并分别计算后按照下列原则来计算: 1)若屏蔽散射线所需的厚度ds和屏蔽泄漏射线所需的厚度dl之差大于一个10倍减弱厚度(从P103~104图3.22~ 3.24查找),即 ,此时选择较厚者作为屏蔽厚度; 2)若屏蔽散射线所需的厚度ds和屏蔽泄漏射线所需的厚度dl之差小于一个10倍减弱厚度即 ,此时选择较厚者+对应材料的半减弱厚度 作为屏蔽厚度; P118例7。 (2)散射射线为主的屏蔽计算 定义:指在入射辐射中因与物体(如人体)作用而偏离原来方向的那部分射线; 散射比 :表征通用情况下人体对射线的散射程度,试验确定; 屏蔽的透射系数 计算 3、次级屏蔽层厚度的确定 二、宽束X或γ射线在物质中的减弱规律 1、积累因子的引入 考虑到散射的影响,在宽束条件下 : B、Bx为积累因子 * 窄束、宽束主要不是几何概念,而是物理概念。 * 一般,积累因子是指在所考察点上真正测量的某一辐射量的大小同用窄束减弱规律算得同一辐射量大小的比值。 * 对不同的辐射量,相应有不同的积累因子。 * 只有当d=0,B=1;一般B1。 说明: 2、单一均匀介质的积累因子 (1) 累积因子数据见P91.图3.18-3.21,以及附表6和附表7; 一般情况下: 对于铅,由于康普粒散射占优势的光子能区很窄,因此它的Bx变化比较特殊. (2)Bx的近似解析表达式 对于各向同性点源,介质的Bx与材料厚度μd的关系可表达为: A1和a1、a2仅与材料和γ射线的能量有关,数值具体见P93表3.4; 3、多层介质的积累因子 在实验的基础上,归纳出积累因子。以双层屏蔽为例有: (1)双层介质的原子序数相差不大 (2)两种原子序数相差很大 *低Z在前,高Z在后 即总积累因子值,可以用高Z介质的代替,原因是光子从低Z介质中射出的散射光子很容易被后面的高Z介质吸收。 *高Z在前,低Z在后 当光子能量较低时: 当光子能量较高,超过与高Z介质线减弱系数最小值相应的那个能量 P95. 例题 1 三、宽束X或γ射线屏蔽的透射曲线 在X、 γ辐射场中,某一点上的 或 ,与同一点上的照射量率成正比。故: 1、
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