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目前主流手机屏幕技术解析;目录;1 屏幕尺寸;屏幕尺寸对比;1 屏幕尺寸;1 屏幕尺寸-单手模式;1 屏幕显示密度;1 屏幕参数-可视角(灰屏);1 亮度和对比度(阳光下效果);1 色温(冷暖屏);a-Si (Amorphous Silicon):非晶硅,特点:产能大、生产制程较短、成本较低
IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide):是一种含有铟、镓和锌的非晶氧化物,载流子迁移率是非晶硅的20~30倍,可以大大提高TFT对像素电极的充放电速率,提高像素的响应速度,实现更快的刷新率,从而使屏幕达到超高分辨率。IGZO可以利用现有的非晶硅生产线生产,只需稍加改动,因此在成本方面比低温多晶硅更有竞争力。
LTPS (Low Temperature Poly-silicon):低温多晶硅,LTPS-TFT LCD具有优势在于超薄、重量轻、低耗电,可以提供更艳丽的色彩和更清晰的影像。TFT LCD可分为多晶硅(Poly-Si TFT)与非晶硅(a-Si TFT),两者的差异在于电晶体特性不同。多晶硅的分子结构在一颗晶粒(Grain)中的排列状态是整齐而有方向性的,因此电子移动率比排列杂乱的非晶硅快了200-300倍;一般所称的TFT-LCD是指非晶硅,目前技术成熟,为LCD 的主流产品。而多晶硅品则主要包含高温多晶硅(HTPS)与低温多晶硅(LTPS)二种产品。
;2 屏幕材料分类;TFT-LCD:Thin Film Transistor Liquid Crystal Display薄膜晶体管液晶显示器
TFT-TN 即扭曲向列型液晶 (twisted nematic liquid crystal),是最常见的液晶驱动方式。
TFT-VA 即垂直配向技术(Vertical Alignment),后续有改进的MVA和PVA
TFT-IPS 即横向电场效应显示(In-Plane Switching)
TFT-FFS 即边缘场开关技术(Fringe Field Switching)
TFT-ADS 高级超维场转换技术(Advanced Super Dimension Switch)
OLED:Organic Light-Emitting Diode即有机发光二极管显示器
主动矩阵有机发光二极体AMOLED
被动式有机发光二极管PMOLED (由于较不适合用于显示动态影像,反应速度相对较慢,较难发展中大尺寸面板,已被淘汰);各类型面板简介-中低端:TN;3 面板类型;3 面板类型;各类型面板简介-高端:MVA;各类型面板简介-高端:PVA;3 面板类型;3 面板类型;软屏和硬屏的区别;3 面板类型;IPS FFS;3 面板类型;TN IPS技术比较;3 面板类型;但是这个问题到了AMOLED时代就不一样了,AMOLED面临2个问题:第一个是像素总个数直接决定生产成本,第二个是AMOLED的发光效率并不高。如果采用和液晶一样的工艺,就需要更高的发光亮度,才能得到和液晶一样的观感,同时也会增加制造成本,所以三星在制造AMOLED面板的时候,采用了一种不同于上面的子像素排列方法,这种子像素排列方式叫做RGB Pentile;AMOLED pentile;4 全贴合技术;4 全贴合技术;4 全贴合技术;4 全贴合技术;4 全贴合技术;全贴合技术;5 总结
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