磁控溅射铜膜与基底结合强度的分析研究-材料研究学报.pdf

第30 卷 第8 期 材 料 研 究 学 报 Vol. 30 No. 8 2 0 1 6 年 8 月 CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH August 2 0 1 6 磁控溅射铜膜与基底结合强度的分析研究* 1 1 1 1 1 2 2 李佳君 刘 浩 左永刚 白 旸 袁禾蔚 何其宇 姜 龙 2 2 1 郭 辉 孙振路 陈广超 1. 中国科学院大学材料科学与光电技术学院 北京 100049 2. 河北省科学院激光所 石家庄 050081 摘要根据磁控溅射金属铜膜在超声清洗中从硅基底上发生剥落的现象, 分析了样品在声场中的运动和受力状态, 发现样 品会发生受迫振动, 拉-拉周期应力引起膜基界面的失效是薄膜脱落的主要原因, 而空化作用是次要原因。通过建立的力学 模型, 计算了膜基结合强度。与划痕法等所测得的膜基结合强度值的比较, 计算值与测量值在数量级和与溅射参数变化趋 势上有很好的吻合。此评价方法可以应用于溅射铜膜/ 多晶金刚石的膜基体系上, 并研究了超声参数、基底表面形貌、基底 成份等因素对膜基结合强度的影响。 关键字 材料检测与分析技术, 膜基结合强度, 超声清洗, 受迫振动, 磁控溅射, 铜薄膜 分类号 O484 文章编号 1005-3093(2016)08-0634-07 Analysis of Adhesive Strength between Magnetron Sputtered Copper Films and Substrate LI Jiajun1 LIU Hao1 ZUO Yonggang1 BAI Yang1 YUAN Hewei1 HE Qiyu2 JIANG Long2 GUO Hui2 SUN Zhenlu2 CHEN Guangchao1** 1. College of Materials Science and Opto-Electronic Technology, University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China 2. Hebei Institute of Laser, Shijiazhuang 050081, China *Supported by National Science Foundation of China No. One Hundred Talents Plan of Chinese Acade- my of Sciences, Equipment Project of Chinese Academy of Sciences No. yz201356, Beijing Science and Technolo- gy Project No. Z 151100003315024 and Hebei Science and Technology Plan No. 142