聚焦离子束奈米制造与在奈米压印之应用.pdf

行 離奈奈 精 類 行 年年 行 立 祥 參理 理 年 行政院國家科學委員會補助專題研究計畫成果報告 聚焦離子束奈米製造與在奈米壓印之應用 計畫類別：■ 個別型計畫 □ 整合型計畫 計畫編號：NSC 95 －2221－E－110－011－ 執行期間： 95年 08 月 01 日至 96年 10 月 31 日 計畫主持人：趙健祥 副教授 國立中山大學機電工程學系 共同主持人：潘正堂 副教授 國立中山大學機電工程學系 計畫參與人員： 蕭府岳 碩士班研究生 國立中山大學機電工程研究所 謝東融 碩士班研究生 國立中山大學機電工程研究所 本成果報告包括以下應繳交之附件： □赴國外出差或研習心得報告一份 □赴大陸地區出差或研習心得報告一份 □出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份 □國際合作研究計畫國外研究報告書一份 執行單位：中山大學機電系 中 華 民 國 96 年 10 月 31 日 行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 聚焦離子束奈米製造與在奈米壓印之應用 Nano-fabrication by focused ion beam and its application to nanoimprint 計畫編號： NSC 95-2221-E-110-011 執行期間： 95 年 8月 1日至 96 年 10月 31日 主持人：趙健祥副教授 國立中山大學機電工程學系 共同主持人：潘正堂副教授 國立中山大學機電工程學系 參與人員：蕭府岳 碩士班研究生國立中山大學機電工程研究所 謝東融 碩士班研究生 國立中山大學機電工程研究所 1 、中文摘要 research has successfully defined 50~400nm 本計畫主要研究聚焦離子束(focused width resist features on the mold and transferred to the polymer after imprinting. ion beam, FIB)對矽、石英玻璃的次微米結 Keywords: Focused Ion Beam, 構蝕刻及沉積特性以及奈米壓印的應用。 Nanoimprint. 探討聚焦離子束對矽和石英玻璃直接或間 2 、計畫緣由與目的 接加工出 3D 次微米結構於不同的參數條 奈米科技被視為產業結構為之變遷的 件下的表現。並且利用聚焦離子束技術來 第四波工業革命，是 21世紀科技與產業發 製造壓印時所需之石英模仁結構，搭配