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氨基四氮唑存在下的锰电沉积行为
第 24 卷第 2 期 中国有色金属学报 2014 年 2 月
Volume 24 Number 2 The Chinese Journal of Nonferrous Metals February2014
文章编号：10040609(2014)02048407
5氨基四氮唑存在下的锰电沉积行为
刘 伟，陈 上，李长安，丁其晨
(吉首大学 化学化工学院，吉首 416000)
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摘 要：采用 5氨基四氮唑(AT)作为锰电沉积过程的新型添加剂，研究不同添加剂用量、电流密度、Mn 浓度、
硫酸铵浓度等条件对锰电沉积电流效率的影响，以及添加剂存在下电解液中杂质离子对电沉积的影响。采用 SEM
观察了锰电沉积过程中的电极表面状态，采用线性电位扫描法研究添加剂对阴极电极过程的影响。结果表明：在
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添加剂 AT用量 0.07 g/L、电流密度 460 A/m 、[Mn ] 18 g/L 以上、硫酸铵浓度 100~120 g/L 的电解条件下，锰沉
积过程中电流效率可达 72%以上，使用该添加剂容许电解液中有少量 Fe、Co、Ni、Cu 杂质离子存在。锰沉积过
程中电流效率变化与电镜观察的锰成晶生长以及阴极板表面的粗糙程度具有相关性，添加剂 AT 通过对竞争析氢
反应的抑制作用来提高锰沉积的电流效率。
关键词：锰；电沉积；添加剂；5氨基四氮唑
中图分类号：TF803.27 文献标志码：A
Electrodeposition behavior of manganesein
presence of 5amino1Htetrazole
LIU Wei,CHEN Shang, LI Changan,DING Qichen
(College of Chemistry and Chemical Engineering, Jishou University, Jishou 416000, China)
Abstract: The 5amino1Htetrazole (AT) was employed as a novel additive during electrodepositing of manganese.
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Effects of the amount of additive, current density, concentrations of Mn and ammonium sulfate on the current efficiency
of the electrodeposition were investigated, and the effect of impurity ions on electrodeposition was also examined. The
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