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衬底温度对射频磁控溅射制备HfO2薄膜结构的影响-本原扫描探针.PDFVIP

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  • 2019-02-25 发布于天津
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衬底温度对射频磁控溅射制备HfO2薄膜结构的影响-本原扫描探针.PDF

    第 14卷第 5期 功能材料与器件学报 Vol14, No5 2008年 10月 JOURNAL OF FUNCTIONAL MATER IALS AND DEV ICES Oct., 2008 文章编号 : 1007 - 4252 (2008) 05 - 0911 - 04 衬底温度对射频磁控溅射制备 HfO2 薄膜结构的影响 1 1 1 2 1 1 3 闫丹 ,吴平 ,邱宏 ,俞必强 ,赵云清 ,张师平 , 吕反修 ( 1. 北京科技大学应用学院物理系 ,北京 , 100083; n 2

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