ECR-CVD法合成包覆各种金属之碳基奈米结构材料制程、成长机制与.PDF

ECR-CVD 法合成包覆各種金屬之碳基奈米結構材料製程、成長機制與性質 研究生：林兆焄 指導教授：郭正次 教授 國立交通大學 材料科學與工程研究所 摘要 為了探討各種製程參數如：觸媒施加方法、前處理氣氛及奈米結構沉 積方法等，對於奈米結構形成之影響，規劃了各種製程條件，利用電子迴 旋共振化學氣相沉積法(ECR-CVD)及微波電漿化學氣相沉積法 (MPCVD) ， 合成包覆各種金屬之碳基奈米結構材料。使用甲烷 (CH ) 、乙炔(C H ) 、氫 4 2 2 氣 (H ) 、氮氣(N ) 、氨氣(NH )及二氧化碳 (CO )為碳源氣體或前處理氣氛， 2 2 3 2 Fe ，Co ，CoSix ，Ni ，Cu 等為觸媒。觸媒是以其前驅物溶液旋轉塗佈(s