热退火对离子注入制备94纳米颗粒生长和光学性能-材料热处理学报.PDFVIP

第 ! 卷 # 第 $ 期 材# 料# 热# 处# 理# 学# 报 789:! # ,8:$ % ’ ( 年 # $ 月 )*+,-+.)/0,- 012+)3*/+4- +,563+))*3+)23,) +;;= % ’ ( 热退火对 离子注入制备 94纳米颗粒生长和光学性能的影响 周 小东 !# 周 思华 !# 孙现科 !周 口师 范学院 物理与机 电工程学院 河南 周 口#?’ $ 摘# 要 ! 利用金属 蒸 发 真空 多弧离 子 源 !2377+源 $注入 机 将 +; 离 子 注入 到 高 纯 石 英 玻 璃 衬 底 中来 制备 +; 纳米 颗 粒 +; 离 ’@ % 子 注入 的加速电 压分别为 % (? 和 O7注入 剂量 为 ’ d’ B8T=GYD 随后 将 注入 样 品在普 通 管式 退火 炉 中 @ K’ L 退火 处理 % 研究了 注入 条件 和热退火 参数 对 +; 纳米 颗 粒的 形 成 (生 长 (分 布 以及 光 学性能的 影响 % 采用 光 学 吸 收谱 (扫 描电 子 显 微 镜 和透射 电子 显微 镜 对 注入 样 品 的光 学性能 (表 面形 貌 和微观结 构 进行了测试和 表征 % 实 验结 果表 明 采 用 该 低 压 离 子 注 入 结 合热 退火 工 艺 的方 法 所 制备的 +; 纳米 颗 粒 具 有 很 强 的局 域 表 面 等 离 子 体 共 振 特 性 同 时该 方 法 也 为 制 备 尺 寸 和 分 布 可 控 的 +; 纳米 颗 粒 提供 了一 些 新的 参 考 途 径 % 关键词 !热退火 ## 离 子 注入 ##+; 纳米 颗 粒 ## 生 长 ## 光 学性能 中图分类号 ! )H’(C%### 文献标志码 ! +### 文章编号 ! ’NA%? !%’( $$A’$A( Y1%-41’)%(3,7+-+11+-12 )12,)(353+8)4,+16)*(’+- *,)*,(.)%941+1)*+,(’-.%+5,’+(65; )17*-+1(+()1 U60RiBX8A\8T#U60R-BAV;X#-R,iBXTAOI !-YV8898Z^V]=BY=XT\ 39IY[8DIYVTBYX93TBTII[BT UV8;O8; ,8[DX9RTBEI[=B] UV8;O8; ?’ .VBTX$ 95.(,+’(+; TXT8‘X[BY9I=IDJI\\I\ BT Z;=I\ =B9BYXaI[IZXJ[BYXI\ J]+;AB8T BD‘9XTXB8T XT\ =;J=IW;ITVI[DX9XTTIX9BTBT XB[ ’@ % XDJBITYI:)VI=B9BYX9X==I=aI[IBD‘9XTI\ J]+; B8T=8Z9;ITYI8Z’ d’ B8T=GYD XB8T XYYI9I[XBTE89XI8Z% ? XT\ O7 ;=BTXDIX9EX‘8[EXY;;D X[Y! 2377+$ B8T =8;[YIBD‘9XTI[:)VIBD‘9XTXB8T XT\ XTTIX9BT‘X[XDII[=!@A’ L $ 8T VI Z8[DXB8T [8aV \B=[BJ;B8T XT\ 8‘BYX9‘[8‘I[BI=8Z+; TXT8‘X[BY9I=aI[I=;\BI\:)VI8‘BYX9‘[8‘I[] =;[ZXYID8[‘V898]XT\ DBY[8=[;Y;[I8ZVI+;AB8T BD‘9XTI\ =XD‘9I=aI[IBT