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北京师范大学测试中心 电子能谱应用专题 2009 年 X 射线光电子能谱在薄膜材料分析中的应用 吴正龙 北京师范大学分析测试中心 北京100875 Email:wuzl@bnu.edu.cn 摘要：与体材料不同，薄膜材料的检测需要应用到表面分析技术。X 射线光电子能谱（XPS ） 在分析薄膜化学组分及其分布中有着重要的、不可替代的应用。具体介绍了 XPS 在碳纳米 复合膜、离子注入掺杂非晶碳膜、硅片表面超薄氧化膜等研究中的应用。列举出了XPS 在 薄膜分析种的其它应用，并给出了相关参考文献。 关键词：X 射线光电子能谱（XPS ） 角分辨 XPS （ARXPS ） 深度剖析 碳纳米复合膜 离 子注入 超薄层氧化硅 前言 X 射线光电子能谱（XPS ）是表面分析中应用最广的技术，典型的分析深度约为10nm。 它可以分析固体材料表面、膜层、界面的化学成分。通常结合Ar＋深度刻蚀，还可以进行材 料的深度剖析材料。因此XPS 不仅可以检测出薄膜表面中的元素及其价态，还可以得到膜 层化学组分沿膜层纵向的分布。XPS 已经成为薄膜研究中很有效的检测和分析技术。这里 我们报道了碳纳米复合薄