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. 厂房设施与设备系统 设施设备系统－概要 设施系统 清洁和维护 设施布局，防止交叉污染（包括来自非药用物料的加工产生的）的人流和物流 用于高致敏物料（如青霉素，β-内酰胺类，类固醇类，激素类，细胞毒素类等）的专用区域或污染控制 设施设备系统－概要 公用设施如蒸汽，气体，压缩空气，加热，通风以及空气调节应进行确认并进行恰当的监测 照明，污水和垃圾处理，洗手和盥洗设施 执行变更的控制系统 厂房的卫生，包括灭鼠剂，杀真菌剂，杀虫剂，清洁和消毒剂的使用 培训和人员资格确认 设施设备系统－概要 设备系统 适宜的设备安装，运行，性能确认 符合预期用途的恰当的设计，足够大小以及合适的位置 在工艺条件下，设备表面不应因起反应，释放或者吸收物料而改变物料质量 设备（如反应罐，储罐）和固定安装的工艺管路应进行适当的标识 设施设备系统－概要 与设备操作有关的物质（如润滑剂，加热液或冷却剂）不应与起始物料，中间体，最终的APIs以及容器接触 应审核清洁程序、清洁验证和消毒方法，以确认残留，微生物，适宜时内毒素的污染已被减少到低于按科学方法建立的恰当的水平 设备确认，校准和维护，包括计算机确认/验证和安全 设施设备系统－概要 用可追溯到已检定标准的标准来进行校验 设备发生变更时的控制系统 任何偏差的文件（关键偏差的调查应包含在质量系统内） 培训和人员资格确认 设施系统-设计和结构 选址、设计和建造应当便于清洁，维护和生产操作 应尽量减少潜在的污染,限制有害微生物的污染 布局和空气处理的设计和结构应当防止交叉污染 物流和人流的设计应当能防止混淆或污染 设施系统-设计和结构 洁净区设施 内表面：平整、光滑、严密、无裂缝、不脱落颗粒、不积聚灰尘 水池、地漏使用水封 墙与地面交界处的处理 便于清洁和消毒 设施系统-设计和结构 指定区域 进厂物料的标识、待验 取样区域（应防止污染） 待验（中间体、APIs） 已放行物料的贮存 不合格品 操作（生产、包装、实验室） 设施系统-公用设施 范围 蒸汽，气体，压缩空气，加热，通风以及空气调节 仅包括规定为所输出物质不进入API的公用设施，例如冷却用水/夹层加热用水 确认并监控 设计确认（DQ） 安装确认（IQ） 运行确认（OQ） 性能确认（PQ） 系统图 设施系统-公用设施 设计和构造应防止污染和交叉污染 固定管道应进行标识（内容物名称、流向） 排水应能防止空气倒虹吸 空调净化系统（HVAC） 温湿度 压差 风量 相对负压区域 过滤器（初、中、高效） 设施系统-公用设施 局部防尘、捕尘设施 产尘量大的区域经捕尘处理不能避免交叉污染时，不得利用回风 取样、称量设施 操作环境的空气洁净度等级应与生产要求一致 设施系统-工艺用水 类别 饮用水 纯化水 注射用水 至少符合饮用水的标准 应建立质量标准 水处理系统应验证 用于进一步加工生产无菌药品时，最终分离和精制阶段的用水应当进行微生物总数、致病菌和内毒素方面的监测和控制 设施系统-工艺用水 设施系统-工艺用水 对纯化水系统的要求 能防止微生物滋生和污染 储罐、管道：无毒、耐腐蚀，无死角、盲管 储罐通气口：0.22微米疏水性过滤器 储存和分配宜采用循环方式 设施系统-特殊限制 生产高致敏性物质，如青霉素或头孢菌素类的药品必须使用专用的生产区 高传染性、高药理活性、高毒性的原料生产，也应考虑使用专用的生产区 应建立相应的措施，以防止人员和物料在各专区之间流转而造成的交叉污染 任何高毒性非药物原料不能使用生产原料药的厂房和设备 设施系统-清洁和维护 清洁规程 卫生工作职责 清洁计划 方法 设备和材料 设施的维护 非药用物质的管理 灭鼠药、杀虫剂、杀真菌剂、烟熏剂和清洁消毒剂－生产活动(包括称重、研磨或包装)不应当使用生产原料药所使用的厂房和/或设备 剧毒非药用物质的处理和储存都应当与原料药分开。 设施系统-其他 照明，污水和垃圾处理，洗手和盥洗设施 足够的照明 废物及时处理 废物储器和管道有清晰的标志 足够的洗手和盥洗设施 设备系统-设计和结构 恰当的设计、位置、大小，表面惰性 便于使用、清洁、消毒和保养 不与物料发生反应，释放或吸附 在确认的操作范围内运行 主要设备（如反应釜、贮存容器）和固定安装的工艺管道，应当适当标识 使用食用级的润滑剂和油类 设备系统-设计和结构 使用密闭的设备，若使用开放设备或设备被打开时，应能防止污染 现行图纸 主要设备 关键装置 设备系统-设备保养和清洁 编码系统 档案系统 维护 被动维护 预防性维护 预知性维护 清洗程序 设备清洗职责分配 设备系统-设备保养和清洁 清洗计划 清洁方法和材料，设备拆卸和安装的方法 生产结束和清洗之间允许的最大时间间隔 使用前防止已清洁的设备被污染 设备和用具应当