基于PLC的真空烤盘炉控制系统的设计与实现电子与通信工程专业论文.docxVIP

I I 基于 PLC 的真空烤盘炉控制系统的设计与实现 摘 要 真空烤盘炉是工业生产环节中的重要清洗设备，主要用于有效清除 MOCVD 承受器（SiC 涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处 理，提高制品质量的目的。 随着工业技术的不断提升，对真空烤盘炉的自动化程度、操作安全性和操作 智能性等提出了更高的要求，使其能够实现自动化控制、操作管理、大量数据的 实时记录和友好的人机界面，能很方便的设置工艺参数、下达工艺命令，从而对 生产中的升温、阀门开关等动作实现快速精确控制，以提高真空烤盘炉的经济实 用性。 针对企业的实际需求，本文通过分析真空烤盘炉工作原理、运行方式并结合 设备的自动控制原理和控制方法提出了建立真空烤盘炉控制系统的方案。 设计了以三菱 FX 型 PLC 为控制核心的真空烤盘炉控制系统，实现了真空烤 盘炉的控制要求和主要功能。该控制系统不仅提高了真空烤盘炉的操作性能，而 且对各种数据的实时监控及采集保存方面有着很大的优势，本系统具备运行稳 定、操作简单、可靠性高等诸多特点。本系统主要包括以下两大部分： （1）硬件设计：根据真空烤盘炉运行要求设计满足其运行方式的的一套自 动控制系统，根据设计方案完成了外部硬件设备的选型以及外部电路控制。 （2）软件设计：包括三菱 PLC 运行程序、VB6.0 编写的上位机监控软件。 实现了各个开关量的采集、阀门和流量计