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第 卷 第 期 年 月 表面技术
暋 39 暋暋 1 暋暋2010 2
暋暋暋Vol.39暋No.1暋Feb.2010 SURFACETECHNOLOGY 暋暋暋暋5
反应磁控溅射碳化铪薄膜的微结构与力学性能
1 1 1 1 2 2
, , , , ,
许辉 祝新发 张晶晶 周颐辛 李冠群 李戈扬
( , ;
1.上海工具厂有限公司 机械工业工具涂层技术重点实验室 上海 200093
, )
2.上海交通大学 金属基复合材料国家重点实验室 上海 200030
[ ] ,
摘 要 为满足不同加工方式和加工条件下刀具对涂层的特殊要求 获得硬度高和耐摩擦性能优异的刀
暋暋 暋 暋
, 。 , , ,
具涂层 采用反应磁控溅射方法制备了一系列不同碳含量的碳化铪薄膜 利用EDXXRDSEM AFM和微力学
, ( ) 、 、
探针表征了薄膜的微结构和力学性能 研究了 分压 和 混合气体 对薄膜成分 相组成 微结构以
CH Ar CH
2 2 2 2
。 , , ,
及硬度和弹性模量的影响 结果表明 反应磁控溅射可以方便地制备碳化铪薄膜 但是 只有在 CH 分压为混
2 2
,
合气体总压约3.0%附近很窄的范围内才可获得高硬度和高弹性模量的单相碳化铪薄膜 其最高硬度和弹性模
; , ;
量分别为 和 低 分压下所得薄膜由金属 和 两相组成 硬度较低 而过高的
27.9GPa 255GPa CH Hf HfC CH
2 2 2 2
, 。
分压将导致薄膜形成非晶态 其硬度和弹性模量亦随之降低
[ ] ; ; ; ;
关键词 碳化铪 硬质薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射
暋
[中图分类号] [文献标识码] [文章编号] ( )
TG174.444暋 暋 暋 A暋 暋 暋 1001-3660201001-0005-04
MicrostructureandMechanicalP
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