弧光离子渗碳与共渗技术及其装置.DOC

  1. 1、本文档共2页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
专利信息 申请号:申请日: 1991/03/19 公开日: 1992/10/07 公告日: 1996/07/24 公开号: 1065102 公告号: 1032376 授权日: 授权公告日: 1996-7-24 专利类别: 发明 国别省市代码: 14[中国|山西] 代理机构代码: 14101 代理人: 庞建英 申请人地址: 山西省太原市迎泽西大街十一号 邮编: 030024 范畴分类号: 25F 名称: 弧光离子渗碳与共渗技术及其装置 国际分类号: C23C 8/22;C23C 8/30;C23C 8/36;C23C 14/30 申请人: 太原工业大学 发明人: 潘俊德;范本惠;李成明;郑维能;韩晋宏;徐重 文摘: 本发明弧光离子渗碳与共渗技术及其装置,是利用弧光放电现象实现金属表面渗碳及其共渗的新技术及其装置。其特征在于以石墨碳直接作为阴极电弧源的靶材,发射出高密度的碳离子流,依靠碳离子的轰击与扩散在工件表面形成均匀渗碳层,若同时通入氮气即可实现碳氮共渗,若在设置石墨碳靶的同时交替均匀设置金属靶既可实现金属、碳、氮共渗,又能在工件表面形成金属碳氮化合物渗镀层及其金属化合物薄膜,具有渗速快,渗层组织均匀,成分可控,设备简单,成本低等优点。 主权利要求: 一种弧光离子渗碳与共渗技术及其装置,是利用稀薄气体中的弧光放电现象,在真空度为3x10↑[-1]~5x10↑[-1]帕,并能充入气体介质、工作气压为8x10↑[-1]~50帕的真空容器内,设置可以转动和升降的阴极转动系统和电弧靶源,同时配备抽气、供气和测温装置,其真空容器由钟罩(1)和底盘(7)组成,其阴极转动系统由阴极托盘(12)、阴极负偏压电源(8)和转动系统(9)组成;电弧靶源由低压直流电源(6)、引弧电极(2)、电弧源靶材(3)、电弧蒸发器(4)、永久磁铁块(5)和冷却装置组成;抽气系统由机械泵(10)和油扩散泵(11)组成;供气系统由供气源(13),送气管路(17)和进气口(18)组成;测试系统由光电测温仪(14)和观察孔(15)组成;其欲渗工件(16)置于阴极托盘(12)上,作为阳极的钟罩(1)和阴极托盘(12)之间连接一个可调的0~1500V的直流负偏压电源(8),在阳极钟罩(1)的不同方位上设置阴极电弧源靶材(3),在阳极钟罩(1)和阴极电弧蒸发器(4)之间连接一连续可调的0~100V的低电压,0~200A的大电流直流电源,本发明特征在于:其一是阴极电弧源的电弧靶材是由石墨碳制成,形成为圆柱状,直径和厚度为φ50~80x35~60mm的石墨靶材;其二是在钟罩(1)上不同方位设置的石墨靶材(3)与欲渗工件(16)成一定的角度;其三是在钟罩(1)上同时在各种角度均匀交替设置石置碳靶和金属靶;其四是在钟罩(1)上设置石墨碳靶的同时,通入氮气实现碳氮共渗;其五是在钟罩(1)上均匀交替设置石墨碳靶和金属靶的同时通入氮气实现欲渗工件表面形成金属碳氮化合物渗镀层和金属化合物薄膜;其六是电弧蒸发器(4)上装有五角形、六角形、八角形、梅花形等各种形状的永久磁铁(5)。 优先权项: PCT 项 进入国家阶段日: 国际申请号: 国际申请日: 国际公布日: 国际公布号: 国际公布语言: 法律状态: 1999-5-12;因费用终止公告日

文档评论(0)

136****3783 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档