研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究-机电工程.PDF

第３５卷第５期 机　 　 电　 　 工　 　 程 Ｖｏｌ.３５ Ｎｏ.５ ２０１８年５ 月 Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ＆ Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｍａｙ２０１８ ＤＯＩ:１０.３９６９/ ｊ.ｉｓｓｎ.１００１－４５５１.２０１８.０５.００２ 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动 轨迹的影响研究∗ ∗ 杨　 杰ꎬ洪　 滔ꎬ文东辉 ꎬ陈珍珍ꎬ张丽慧ꎬ姬孟托 (浙江工业大学 特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室ꎬ浙江 杭州３１００１４) 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ 建立了定偏心主驱动式和直线摆动驱动式下的轨迹数学模型ꎬ通过Ｍａｔｌａｂ进行了运动学仿真ꎬ对两种驱动方式和 不同转速比下的单颗与多颗磨粒运动轨迹进行了对比研究ꎬ最后用离散系数对两种驱动方式在不同转速比下的研磨轨迹均匀性进 行了分析ꎮ 研究结果表明:当转速比为有理数时ꎬ研磨轨迹重复ꎬ转速比大小与驱动方式对轨迹均匀性影响较大ꎻ而当转速比为无 理数时ꎬ研磨轨迹开放不闭合ꎬ其轨迹均匀性优于有理数的ꎬ且转速比大小与驱动方式对轨迹均匀性影响较小ꎻ该研究为选择合理 的驱动方式与转速比提供了理论依据ꎬ有利于工件被加工表面质量的提高ꎮ 关键词:研磨轨迹ꎻ驱动方式ꎻ无理数转速比ꎻ轨迹均匀性 中图分类号:ＴＨ１６ꎻＴＧ５８０.６　 　 　 　 文献标志码:Ａ 文章编号:１００１－４５５１(２０１８)０５－０４５３－０６ Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ ｏｆ ｌａｐｐｉｎｇ ｄｒｉｖｅ ｍｏｄｅ ａｎｄ ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ ｓｐｅｅｄ ｒａｔｉｏ ｏｎ ｔｈｅ ｔｒａｃｋ ｏｆ ａｂｒａｓｉｖｅ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ ＹＡＮＧＪｉｅꎬＨＯＮＧＴａｏꎬＷＥＮ Ｄｏｎｇ￣ｈｕｉꎬＣＨＥＮ Ｚｈｅｎ￣ｚｈｅｎꎬＺＨＡＮＧ Ｌｉ￣ｈｕｉꎬＪＩ Ｍｅｎｇ￣ｔｕｏ (Ｋｅｙ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ ｏｆ Ｅ＆Ｍ. ꎬＭｉｎｉｓｔｒｙ ｏｆ ＥｄｕｃａｔｉｏｎꎬＺｈｅｊｉａｎｇ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙꎬＨａｎｇｚｈｏｕ３１００１４ꎬＣｈｉｎａ) Ａｂｓｔｒａｃｔ:Ａｉｍｉｎｇ ａｔ ｔｈｅ ｐｒｏｂｌｅｍ ｔｈａｔｔｈｅａｂｒａｓｉｖｅｇｒａｉｎｔｒａｊｅｃｔｏｒｙｗａｓｈｉｇｈｌｙ ｒｅｐｒｏｄｕｃｉｂｌｅꎬａｎｄｔｈｅｌａｐｐｉｎｇａｎｄｐｏｌｉｓｈｉｎｇｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙｗａｓｉｎ￣ ｓｕｆｆｉｃｉｅｎｔ ｉｎ ｔｈｅ ｃｏｎｖｅｎｔｉｏｎａｌ ｌａｐｐｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓꎬｔｈｅ ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ ｉｒｒａｔｉｏｎａｌ ｓｐｅｅｄ ｒａｔｉｏ ｏｆ ｔｈｉｓ ｎｅｗ ｃｏｎｃｅｐｔꎬｗａｓ ｅｘｐｅｃｔｅｄｔｏｆｕｒｔｈｅｒ ｅｎｈａｎｃｅ ｔｈｅ ｌａｐｐｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ. Ｔｈｅ ｍａｔｈｅｍａｔｉｃａｌ ｍｏｄｅｌ ｏｆ ｔｈｅ ｔｒａｊｅｃｔｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ｅｃｃｅｎｔｒｉｃ ｍａｉｎ ｄｒｉｖｅ ａｎｄ ｔｈｅ ｌｉｎｅａｒ ｓｗｉｎｇ ｄｒｉｖｅ ｗａｓ ｅｓｔａｂ￣ ｌｉｓｈｅｄꎬａｎｄ ｔｈｅ ｋｉｎｅｍａｔｉｃｓｓｉｍｕｌａｔｉｏｎｗａｓｃａｒｒｉｅｄｏｕｔｂｙ Ｍａｔｌａｂ. Ｔｈｅｔｒａｊｅｃｔｏｒｙｏｆ ｓｉｎｇｌｅａｎｄｍｕｌｔｉｐｌｅａｂｒａｓｉｖｅｇｒａｉｎｓｗｅｒｅｃｏｍｐａｒｅｄｂｅｔｗｅｅｎ ｔｗｏ ｄｒｉｖｉｎｇｍｏｄｅｓａｎｄｄｉｆｆｅｒｅｎｔｓｐｅｅｄｒａｔｉｏｓ. Ｆｉｎａｌｌｙꎬｔｈｅｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙｏｆｌａｐｐｉｎｇｔｒａｊｅｃｔｏｒｙａｔｄｉｆｆｅｒｅｎｔｓｐｅｅｄｒａｔｉｏｓｗａｓａｎａｌｙｚｅｄｂｙｄｉｓｃｒｅｔｅｃｏ￣ ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ.Ｔｈｅ ｒｅｓｕｌｔｓ ｉｎｄｉｃａｔｅ ｔｈａｔ ｗｈｅｎ ｔｈｅ ｓｐｅｅｄ ｒａｔｉｏ ｉｓ ｒａｔｉｏｎ