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八 外层
8.1 制程目的
经钻孔及通孔电镀后, 内外层已连通, 本制程在制作外层线路, 以达电性的完整.
8.2 制作流程
铜面处理 压膜 曝光 显像
8.2.1 铜面处理
详细资料请参考4.内层制作.
8.2.2 压膜
干膜介绍
干膜(dry film)的构造见图8.1,
1968 年由杜邦公司开发出来这种感旋光性聚合物的
干膜后 PCB 的制作就进入另一纪元, 到1984 年末杜邦的专利到期后日本的HITACHI 也有自己的
品牌问世 尔后就陆续有其它厂牌加入此一战场.
依干膜发展的历史可分下列三种Type:
溶剂显像型
半水溶液显像型
碱水溶液显像型
现在几乎是后者的天下,所以本章仅探讨此类干膜.
A. 干膜之组成
水溶性干膜主要是由于其组成中含有机酸根 会与强碱反应使成为有机酸的盐类 可被水
溶掉 其组成见图8.1 水溶性干膜最早由Dynachem 推出, 以碳酸钠显像 用稀氢氧化钠剥膜 当
然经不断改进才有今日成熟而完整的产品线.
B. 制程步骤
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干膜作业的环境 需要在黄色照明,通风良好,温湿度控制的无尘室中操作 以减少污染增
进阻剂之品质 其主要的步骤如下
压膜─停置─曝光─停置─显像
压膜(Lamination)作业
A. 压膜机 压膜机可分手动及自动两种,有收集聚烯类隔层的卷轮 干膜主轮 加热轮 抽风
设备等四主要部份, 进行连续作业, 其示意见图8.2
一般压膜条件为
压膜热轮温度 120 10
板面温度 50 10
压膜速度 1.5~2.5 米 分
压力 15-40 psi
a. 传统手动压膜机须两人作业 一人在机前送板 一人在机后收板并切断干膜 此方式用
在样品 小量多料号适合 对人力 物料的耗用浪费颇多
b. 自动压膜机市面上HAKUTO CEDAL SCHMID 等多种厂牌 其机构动作在板前缘黏压干膜
方式及压膜后缘切膜动作多有不同 但都朝产速加快 节 省干膜以及黏贴能力上在改进
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c. 国内志胜几年前开发自动压膜机颇为成功国内多家大厂均有使用.
d. 干膜在上述之温度下达到其玻璃态转化点而具有流动性及填充性 而能覆盖铜面 但温
度不可太高 否则会引起干膜的聚合而造成显像的困难 压膜 前板子若能预热,可增强其附着力
e. 为达细线路高密度板之高品质 必须从环境及设备上着手 干膜之压膜需要在无尘室中
进行 10K 级以上 环境温度应控制在23 3 相对湿度应 保持50 RH 5 左右 操作人
员也要带手套及抗静电之无尘衣帽
8.2.3 曝光 Exposure
曝光机种类
手动与自动
平行光与非平行光
LDI 雷射直接暴光
A. 手动曝光机 是将将欲曝板子上下底片以手动定PIN 对位后 送入机台面 吸真空后曝
光
B. 自动曝机一般含Loading/unloading 须于板子外框先做好工具孔 做初步定 位再由机
台上之CCD Check 底片与孔的对位状况 并做微调后入曝光区曝 光 依目前的精密须求程度 不
以视觉机器自动对位 恐怕做不到好品质的 板子
C. 如何量测及评估曝光机的平行度:
定义:从平行度(collimate)字面的意思就是使直向行进 而从光的眼光而言则是让光行
进同时垂直于照射面 图8.3 是平行光与非平行光之比较.
平行度的影响:而研判平行直进的方法有两个值可供参考 平行羊角 (Collimate Half
Angle)及偏斜(Declination Angle) 此二值可大略判断 曝光机的平行度及曝光可能造成的侧向偏
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