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M/a—Si:H/SnO2结构双势垒的验证
维普资讯
第 l9卷 第 1期 太 阳 能 学 报 Vo【.19.No 1
l998年 1月 ACTA ENERG IAE SOIARISSIN1CA Jan .1998
M /a—Si:H/s 垒的验证
张治国
(内蒙古工业大学电军 。; ,呼和暗特010080)
文 摘 :给出了M /a-Si,H/SnO 结掏的平衡态能带图,用光电压法和c 特性法对该结掏的双势
垒进行丁实验验证。蛤出了背结的接触电势差,同时发现这种结构用怍光电器件时小势垒的影响
可 忽略。其中C—V特性及其判别法尚未见报导。
美键词 :非晶硅 ,双势垒,验证 一 S:H/5n
一 — — 一
,
0 引 言
M /a—Si,H/SnO 结构常被人们用来测试非晶硅材料的少子扩散长度 、肖特基结构的势
垒高度和宽度、接触电势差以及材料的扩展态数目等 【。一般认为.这种结构具有双势垒.我们
对其进行了测试和实验验证 。
1 平衡态双势垒模型及光电压判别法
实验样品选用的a—si:H材料,是在 SnO。/Glass衬底的SnO 一面用辉光放 电法生长一
层厚约 2m 的本征 a—si;H层,尔后在 a—si:H表面镀制一层厚约 6 12nm 的Pd金属膜 (直
径为0.72nm)制成的。由上述材料的功函数、载流子浓度等参数可以画出如图1所示的平衡态
能带图。由该图可见,前一个结形成的势垒为 肖特基势垒,后一个势垒为非晶硅和二氧化锡形
成的结势垒,它为一小势垒。为了证实双势垒理论模型,采用光 电探测法进行测试。实验时,脉
电
冲探测光分别从前结 (金属 /半导体结)和背结(半导体 /二氧化锡结)入射,并变换入射光的波
长,通过测量该系统的光电压即可确定两个势垒的大小。大势垒耗尽层宽,吸收的光子数多,光
上 ,
生载流子在 电场中被加速的时间长,获得的能量大,容易渡到电极两边,故输出光电压大。反之
亦然,势垒小输出光电压就小。离开势垒区、中性区界面在中性区一侧的一个少子扩散长度之
内,光生载流子若有机会扩散到结区的话.同样需要被结电场加速,否则不能到达电极。显然,
光生载流子的运动主要靠结电场赋予的动能,而扩散运动在相 比之下就显得小多了。由上所述
以及入射光在半导体中的分布和双结的电场方向,可以得出判别势垒大小的条件:假如光从前
结入射.所测到的光电压是SnO:极为负,而且又有一个较大的输出电压值,这说明前结势垒
较大;如果测到的电压是SnO。极为正,则可能背结较大。假如光从背结入射,如果SnO 为正,
金属为负且输出较大的电压,则可能背结较大;此时若 SnO 极为负,则前结较大 若两种操作
本文 】996,10-26收到。
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】期 张治 国:M/aSi:H/SnO 结掏双势垒的验证
完成后输出电压的绝对值相等,则两个势垒一般大 图
2所示为测试装置示意图、脉i中探测光 由光源、截光器
和光栅单色仪产生,蓝偏光由光源和蓝色滤光片组成 。
- E一 样品两端的电信号由锁相放大器测出;两光源 由交流
SnO2 电子稳压器和 电子稳流电流源提供 ;蓝偏光的光强恒
_一 定为 0.29mW ·crll 加蓝偏光的 目的是为了能够压
M
缩某个结的势垒高度与厚度,一方面使得被压缩后的
势垒所收集到的电信号不要太大 ,
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