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不同电解液中钛合金电解等离子体抛光的对比分析＊贺春影１， 唐金凤１， 陈述２， 王 不同电解液中钛合金电解等离子体抛光的对比分析＊ 贺春影１， 唐金凤１， 陈述２， 王立世３，４ 卜智翔３，４， 陈明慧３，４， 耿阳３，４， 孙力３，４ （１．中国航天科工集团第四研究院 红阳机电有限公司，湖北 孝感 ４３２０００；２．中国航天科工集团第四研究院，北京 １０２３０８； ３．湖北工业大学 机械工程学院，湖北 武汉 ４３００６８；４．湖北工业大学 绿色轻工材料湖北省重点实验室，湖北 武汉 ４３００６８） 摘 要： 利用粗糙度仪、激光发射率测试仪、光学及电子显微镜等设备，对不同电解液体系中得到 的钛合金试样表面的粗糙度及形貌进行了分析．结果表明：配方４ 电解液体系中得到的试样表面最为平 整、镜面效果最好；配方１、２、３ 处理得到的膜层表面粗糙度也有较大的改善． 关键词： 钛合金；电解等离子体抛光；电解液；表面粗糙度 中图分类号： ＴＧ１７５ 文献标志码： Ａ 文章编号： １００７－９７９３（２０１４）０６－００５６－０６ Ｙｅｒｏｋｈｉｎ把电解液组分分为六类［６］． 与电解等离子体氧化要求不同，等离 子 体 电 解抛光要 求 所 形 成 的 膜 层 要 能 够 溶 解 和 易 于 剥 落，因而在配方的设计上要达到两个目标：（１）处 理初始阶段要能够快速钝化并击穿，进入放电等 离子体状态；（２）钝化击穿后所形成的膜层要在电 解液及电解附近的化学、电化学及热化学等作用 下疏松化并快速溶解及剥落．与其他金属相比，因 钛与氧的亲和性极强，钛及其合金的抛光显得尤 为困难．目前工业界对于钛的抛光后表面粗糙度 的改善一般在５０％ 以下，比如 ＡｂｌｅＥｌｅｃｔｒｏｐｏｌｉｓ－ ｈｉｎｇ Ｃｏ．Ｉｎｃ．、ＭＣＰ Ｅｌｅｃｔｒｏｐｏｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．Ｉｎｃ， ＤｅｌｓｔａｒＭｅｔａｌＦｉｎｉｓｈｉｎｇＩｎｃ．等 有 代 表 性 公 司 的 钛合金抛光工艺［７］． 本文尝试用 ＥＰＰ 方法对钛合金进行抛光，设 计不同的电解液配方，探讨不同组分对抛光效果 的影响．研究成果可为钛合金电解等离子体抛光 技术在飞机、导弹、生物医学等领域的应用提供试 验基础． 前 言 １ 电解等离子体抛光（ＥｌｅｃｔｒｏｌｙｔｉｃＰｌａｓｍａＰｏｌ－ ｉｓｈｉｎｇ，ＥＰＰ）是一种于水基电解 液 中 高 电 压 作 用 下，在工件表面产生等离子体放电而达到清洗或 抛光而开发的电化学表面处理技术．处理过程中 将工件浸入一定温度的电解液中，并对其施加一 定波形的电压后，在适当的工艺条件下，工件表面 与电解液毗邻处会产生稳定的蒸汽气体层 （厚度 ５０～１００ｎｍ），使工件表面和电解液相隔离，当电 压升至足 够 高 后 （通 常 ２００～４００ Ｖ），汽 层 击 穿 （电场强度 可 达 １０４ ～１０５ Ｖ／ｃｍ），形 成 放 电 等 离 子体 （接 触 辉 光 放 电 电 解，Ｃｏｎｔａｃｔ Ｇｌｏｗ Ｄｉｓ－ ｃｈａｒｇｅＥｌｅｃｔｒｏｌｙｓｉｓ，ＣＧＤＥ）．该 技 术 具 有 可 处 理 外形复杂的工件以及环保的电解液（通常是质量 百分 浓 度 为 ４％ ～１０％ 无 机 盐 的 水 基 溶 液 ）等 优点［１－５］． ＥＰＰ 过程中电 极 表面 附近的击穿放电是一 个电、光、热和力的相对复杂过程，涉及基体、电解 液、溶剂和槽中其他组分之间的化学、电化学、等 离子体化学和物理冶金等多类反应．其中，配制电 解液的无机盐种类及其浓度是产生合适微放电的 关键 所 在．在 研 究 等离子体 电解氧化的过程中， 实 验 ２ 实验材料 本实验抛光处理的基体材料为钛合 金 板，厚 ２．１ 收稿日期：２０１４－０９－１６ 作者简介：贺春影（１９７５－），女，吉林伊通人，高级工程师，主要从事有色合金表面处理技术开发与管理方面研究． 通信作者：王立世（１９７４－），男，河南开封 人，副 教 授，主要从事电化学表面改性及轻合金表面处理方面研究．Ｅ－ｍａｉｌ：ｌｓｗａｎｇ＠ ｍａｉｌ．ｈｂｕｔ．ｅｄｕ．ｃｎ． ＊ · ５７ ·第６ 期贺春影，等： 不同电解液中钛合金电解等离子体抛光的对比分析度为２ ｍｍ．试样采用剪床取样，去离子水清洗后干燥待用．测试方法粗糙度采用 ＴＲ２１０ 手持式粗糙度仪进 行 · ５７ · 第６ 期 贺春影，等： 不同电解液中钛合金电解等离子体抛光的对比分析 度为２ ｍｍ．试样采用剪床取样，去离子水清洗后 干燥待用． 测试方法 粗糙度采用 ＴＲ２１０ 手持式粗糙度仪进 行 测 量；光泽度采用激光反射率的方法进行测量；表面 特征采用光学及扫描电镜方法进行． ２．３ 等离子体电解抛光处理 处理用电源功率为 ２０ｋＷ，根据工艺需要可 输出直流、双脉冲交流