射频磁控溅射法制备的CaWO4颐Yb薄膜及其发光性能研究.PDF

第35卷摇 第10期 发摇 光摇 学摇 报 Vol郾35 No郾10 2014年10月 CHINESEJOURNAL OF LUMINESCENCE Oct. ,2014 文章编号:1000鄄7032(2014)10鄄1234鄄06 射频磁控溅射法制备的 3+ CaWO 颐Yb 薄膜及其发光性能研究 4 * 廖金生 ,刘摇 宝,柳少华,钟来富,傅俊祥 (江西理工大学 冶金与化学工程学院,江西 赣州摇 341000) 摘要: